7分鐘前 錄像機殼曝光顯影加工生產來電垂詢「利成感光」[利成感光38dbdb8]內容：曝光時菲林膠片黑色部分的鋼片不被感光，對于空白的蝕刻鋼片感光，鋼片感光的油墨發生聚合反應，然后通過顯影機，蝕刻鋼片上的感光油墨不被顯影液所融化，為感光的油墨被顯影液去除，通過這樣的方式，需要蝕刻的圖案顯影在鋼片上面了。曝光：在將光線通過掩膜中的芯片圖案照射到光刻膠表面的過程中，使得光刻膠在芯片表面保留下芯片圖案的影像。顯影：通過將芯片表面的光刻膠所形成的圖案暴露在顯影液中進行刻蝕，去除光刻膠的非芯片圖案區域，使得芯片上僅保留出所需要的器件結構。

顯影液去除并且清洗（rinse）：達到顯影時間后，使用DIW立即沖洗晶圓表面。去離子水不僅可以使顯影過程終止，而且會把顯影后缺陷顆粒沖洗掉。在沖洗過程中，晶圓顯影工藝是指用顯影液去除晶圓上部分光刻膠，形成三維的物理圖形

旋轉產生的離心力也對去除表面顆粒有很大的幫助。甩干（spin dry）：為了將表面的去離子水甩干，將硅片轉到高轉速蝕刻加工中曝光顯影是蝕刻工序前的一步重要的工序，曝光是將需要蝕刻的圖案通過光繪轉移到兩張一樣的菲林膠片上，曝光顯影是一種攝影技術，其過程包括兩個步驟：曝光和顯影。在曝光過程中，光線照射到感光材料上，使材料中的紋理或顏色發生變化。在顯影過程中，通過將已曝光的感光材料轉移到顯影劑中，然后在定影劑中處理，產生可見的圖像。