Plasma 2000 技術特點

1. 優異的光學系統

2. 固態有效射頻發生器，體積更加小巧

3. 流程自動化，狀態監控及自動保護

4. 科研級檢測器，極高的紫外量化效率

5. 強大分析譜線

6. 信息直觀豐富

7. 多窗口多方法

8. 編輯功能強大

9. 智能譜圖標定

10. 智能干擾矯正

想了解更多產品信息您可撥打公司熱線進行咨詢！鋼研納克竭誠為您服務！

鋼研納克：固態光源ICP，國產單道掃描ICP進入固態光源時代

穩健的全固態光源ICP光譜儀 鋼研納克 Plasma 1500

全固態射頻發生器，體積小、，全自動負載匹配，速度快、精度高，全固態光源ICP光譜儀能適應各種復雜基體樣品及揮發性的測試，具有優異的長期穩定性。

垂直炬管的設計，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。

簡潔的炬管安裝定位設計，快速定位，的位置重現。

具有低功率待機模式，待機時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，節約使用成本。

實時監控儀器運行參數，以太網及CAN工業現場總線，保障通訊可靠。

鋼研納克 Plasma2000 全譜ICP光譜儀

Plasma2000電感耦合等離子體發射光譜儀是鋼研納克在首批“國家重大科學儀器設備開發專項”支持下研發的二維全譜高分辨ICP光譜儀，是國產全譜ICP光譜儀革命性產品，曾斬獲中國儀器儀表行業協會“自主金獎”等一系列榮譽，在業界獲得廣泛的好評。美觀精致的高顏值工業設計，優異穩定的測試性能源于納克近四十年ICP行業經驗。Plasma2000擁有

1、中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，徑向觀測，具有穩健的檢測能力。

2、 有效穩定的自激式固態射頻發生器，體積小巧，匹配速度快，確保儀器的精度較高運行及優異的長期穩定性。

3、 高速面陣CCD采集技術，單次曝光獲取全部譜線信息，真正實現“全譜直讀”。

4、 功能強大的軟件系統，簡化分析方法的開發過程，為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

可廣泛應用于冶金、地質、材料、環境、食品、石油、化工、生物、水質等各領域的元素分析。

鋼研納克擬負責起草ICP-AES

鋼研納克擬負責起草《電感耦合等離子體發射光譜儀》

儀器信息網訊 2014年10月28日，委決定發布通知對2014年第二批擬立項項目(見附件)公開征求意見。其中提出將制定《電感耦合等離子體發射光譜儀》國家推薦標準。主管部門為中國機械工業聯合會，歸口單位為國工業過程測量和控制標準化技術會，起草單位為鋼研納克檢測技術有限公司，計劃完成時間為2016年。

《電感耦合等離子體發射光譜儀》標準將規定電感耦合等離子體原子發射光譜儀的術語與縮略語、分類、要求、試驗方法、檢驗規則、標志、包裝、運輸和貯存。

據介紹，制定該標準旨在提升我國ICP光譜儀的生產制造規范性，使儀器性能穩定;通過規范生產提高ICP光譜儀生產企業準入門檻，形成具有競爭力的企業。從而縮小國產儀器同國外儀器的性能差距，提高國產ICP光譜儀的市場占有率。對ICP光譜儀產業發展具有重要和積極的意義。

項目起草單位鋼研納克檢測技術有限公司研發生產電感耦合等離子體發射光譜儀始于2006年，2009年10月，鋼研納克開發了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀，采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現全譜采集，該儀器是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發專項”成果。