4分鐘前 清浦計(jì)算機(jī)殼曝光顯影加工生產(chǎn)商誠(chéng)信企業(yè)「在線咨詢」[利成感光38dbdb8]內(nèi)容：當(dāng)照相底片上的大光密度小于2.8時(shí)，紫外光可透過底片上的不透明區(qū)，使不透明區(qū)下面的干膜局部發(fā)生聚合；當(dāng)?shù)灼系墓饷艿状笥趏.2時(shí)，紫外光難于穿過底片透明區(qū)，延長(zhǎng)了曝光時(shí)間。為此建議底片上大光密度大于4，光密度小于o.2。顯影時(shí)，通過感光鼓和顯影輥之間的電場(chǎng)作用，碳粉被吸到感光鼓曝光區(qū)域。其中曝光部位電位低于顯影輥表面電位低于感光鼓未曝光部位電位。多用在數(shù)碼復(fù)合機(jī)與激光打印機(jī)中。

曝光不足，導(dǎo)致單體聚合不，那么在顯影過程中，會(huì)使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會(huì)造成難顯影，留有殘膠。同時(shí)曝光影響圖案的線寬，過量曝光會(huì)使圖形線條變細(xì)，蝕刻產(chǎn)品線條變粗。感光(曝光)完成后就要進(jìn)行下一步工作——顯影。顯影的目的是通過顯影將未曝光的地方?jīng)_走，經(jīng)過曝光的地方固化，這樣就能確定需要被腐蝕和不被腐蝕的圖案。以便后續(xù)蝕刻加工的精度。

曝光顯影是一種攝影技術(shù)中常用的過程，通常用于將攝影底片或者電子傳感器中記錄的光影信息轉(zhuǎn)化為可見影像的過程。曝光是將光照射在底片或傳感器上的過程，而顯影則是將暴露的底片或傳感器做出可見影像的過程。這個(gè)過程在攝影，印刷和微電子制造等很多領(lǐng)域中都有應(yīng)用。曝光顯影是一種用于光刻制程的技術(shù)，主要用于制造半導(dǎo)體芯片、液晶顯示器等微電子器件。它包含兩個(gè)階段：曝光：在將光線通過掩膜中的芯片圖案照射到光刻膠表面的過程中，使得光刻膠在芯片表面保留下芯片圖案的影像。顯影：通過將芯片表面的光刻膠所形成的圖案暴露在顯影液中進(jìn)行刻蝕，去除光刻膠的非芯片圖案區(qū)域，使得芯片上僅保留出所需要的器件結(jié)構(gòu)。