潔凈室中的溫濕度控制

潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院螅瑢Ξa(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時(shí)，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時(shí)易生銹。在本設(shè)計(jì)里是指末端工藝的一些無塵車間，其凈化潔凈度一般為千級或萬級或十萬級。此外，濕度太高時(shí)將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面難以清除。相對濕度越高,粘附的越難去掉，但當(dāng)相對濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)濕度范圍為35—45%。

光學(xué)微電子凈化工程解決方案:

2、光學(xué)微電子行業(yè)凈化工程設(shè)計(jì)方案分析之水冷柜機(jī)+增壓風(fēng)柜+高1效送風(fēng)口

缺點(diǎn)：

A.需要小面積的機(jī)房。需要有冷卻塔、冷卻水泵的擺放位置;

B.空調(diào)機(jī)組與空調(diào)處理機(jī)組要集中布置;

C.造價(jià)較低。特點(diǎn)：這種方案可以是一次回風(fēng)也可以是二次回風(fēng)，具體根據(jù)車間的大小情況而定;這類方案一般可以適用于潔凈度為千級、萬級、十萬級等的凈化無塵廠房。

千級無塵車間管理規(guī)范 ▼標(biāo)簽： 千級無塵車間 環(huán)保工程 凈化工程 空氣凈化

1. 凈化工程1.目的為無塵室清潔建立規(guī)范從而保證產(chǎn)品的質(zhì)量。

2 范圍 適用于千級無塵室生產(chǎn)車間及進(jìn)出人員、物料。

3 定義 無

4 職責(zé) 生產(chǎn)部：負(fù)責(zé)無塵室清潔的執(zhí)行。 品質(zhì)部：負(fù)責(zé)對無塵室的潔凈度進(jìn)行檢驗(yàn)。 5 內(nèi)容與要求

5.1 風(fēng)淋室清潔：

5.1.1 每天上午和下午下班時(shí)對風(fēng)淋室進(jìn)行清潔，擦拭灰塵和換除塵墊。

5.1.2 進(jìn)入車間時(shí)風(fēng)淋時(shí)間為20秒。

5.2 無塵室清潔：

5.2.1 每天上午和下午下進(jìn)時(shí)進(jìn)行清潔，用吸塵器進(jìn)行吸塵。

5.2.2 每三天進(jìn)行一次大清潔，用濕海棉擦地面。

5.2.3 每天上午和下午上班后30分鐘內(nèi)生產(chǎn)主管進(jìn)行溫濕度檢驗(yàn)并記錄。

5.2.4 溫度要求25±3℃；濕度要求≤65%。如達(dá)不到則進(jìn)行空調(diào)調(diào)節(jié)直到合格才能生產(chǎn)。

5.3 潔凈度檢驗(yàn):

5.3.1 品質(zhì)部每天上午9:00前,下午14:00前用塵埃粒子測試儀進(jìn)行檢驗(yàn)并記錄結(jié)果.

5.3.2如檢驗(yàn)達(dá)不到千級要求則生產(chǎn)部停止生產(chǎn)進(jìn)行清潔,直到檢驗(yàn)OK方可生產(chǎn).

5.4 人員進(jìn)出:

5.4.1 人員進(jìn)入前按《千級無塵室著裝規(guī)范》著裝.

5.4.2 所有人員從風(fēng)淋室進(jìn),出口出,不得違規(guī)進(jìn)出.

5.4.3 緊急出口只能在發(fā)生緊急情況下或運(yùn)送機(jī)器時(shí)才能使用.

5.5 物料進(jìn)出:

5.5.1 所有材料必須從風(fēng)淋窗口進(jìn)入.

5.5.2 任何容易帶有或產(chǎn)生灰塵、紙屑的物料不得進(jìn)入和使用。

6 記錄及相關(guān)文件

6.1《溫濕度記錄表》

6.2《塵埃粒子檢驗(yàn)記錄表》

6.3《千級無塵室著裝規(guī)定》