7分鐘前 臺式電腦殼曝光顯影加工定制信息推薦「利成感光」[利成感光38dbdb8]內容：

曝光一般在曝光機內進行，目前的曝光機依據光源冷卻方式可分為風冷和水冷，曝光質量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時間、菲林膠片質量等因素。

曝光不足，導致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會造成難顯影，留有殘膠。

蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

底片尺寸的穩定性隨環境的溫度和貯存時間而變化。所以，底片的生產、貯存和使用采用恒溫的環境，采用厚底片也能提高照相底片的尺寸穩定性。

除此以外，曝光機的真空系統和真空曝光框架材料的選擇，也影響曝光成像的質量。

顯影時，通過感光鼓和顯影輥之間的電場作用，碳粉被吸到感光鼓曝光區域。其中曝光部位電位低于顯影輥表面電位低于感光鼓未曝光部位電位。多用在數碼復合機與激光打印機中。

3D玻璃顯影曝光技術在HW mateRs用到了此技術，該后蓋3D玻璃8曲面，弧面曲率大，普通的貼膜技術難以解決，應用范圍主要是機型，曲率越大的玻璃加工制造難度加大，良率降低，成本報價相應要高，設計八曲面玻璃主要是為了滿足如下兩點需求：曝光顯影加工是半導體工業制程中的一種加工方法，也被稱為光刻工藝。它是通過在芯片表面上涂覆一層光刻膠，并使用掩膜在光刻膠上曝光出所需要的芯片圖案，通過顯影來去除未曝光的部分，將芯片圖案準確地轉移到芯片表面的制程。

顯影包括正顯影和反轉顯影。正顯影時，顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。顯影時，在感光鼓表面靜電潛像是場力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。常用1％～2％的碳酸鈉水溶液作顯影液，液溫30～40℃，顯噴淋去膜生產，但應經常檢查噴嘴是否堵塞，在膜液中必須添加消泡劑。 感光(曝光)完成后就要進行下一步工作——顯影。顯影的目的是通過顯影將未曝光的地方沖走，經過曝光的地方固化，這樣就能確定需要被腐蝕和不被腐蝕的圖案。以便后續蝕刻加工的精度。