－微影技術(shù)

微影技術(shù)透過紫外光當光源，將繪制在光罩上的電路圖形微縮投影至涂布光阻的利成上，再經(jīng)過曝光顯影蝕刻去除光阻等過程，在利成產(chǎn)生集成電路。隨著制程微縮線寬縮小，光罩也變得更為精細，光源波長也需變短，以避免繞射效應(yīng)產(chǎn)生。

過去紫外光波長一路從365nm進展到目前以ArF氣體雷射達到193nm，ArF 193nm曝光機原理上可制作的小線寬為48nm，加上浸潤式微影與多重曝光的搭配，眾利成代工廠的制程辛苦走到7nm節(jié)點，采用多重曝光技術(shù)僅能做單一方向微縮，無法做2個方向的微縮，影響單位面積下所能容納的晶體管數(shù)量，加以所需光罩數(shù)與制程數(shù)大幅增加，以往隨著制程微縮，每芯片成本隨之下降情況已不復(fù)見。因此，載體為調(diào)色劑穩(wěn)定地提供電荷，以使得可以通過調(diào)色劑層來涂敷顯影輥，而沒有輸出圖像濃度的降低或調(diào)色劑的分散。

東莞市清溪利成感光五金廠本廠主要做曝光顯影工藝，平面、圓弧面、凹凸面、噴砂1氧2氧陽極、五金絲印.五金腐蝕等產(chǎn)品加工，有多年經(jīng)驗，有需要以上的工藝歡迎您的到來參觀和洽談，可免費打。

顯影的主要過程如下：對準曝光一曝光后烘一顯影一堅膜一顯影檢測。

顯影（ develop)

PEB之后，硅片冷卻至239℃左右，與顯影液溫度相同，并與顯影液發(fā)生化學反應(yīng)。

一般來說，顯影過程中被曝光和未曝光部分的光刻膠都會與光刻膠發(fā)生反應(yīng)，因此，為得到良好的顯影效果，可以通過改變顯影液成分，顯影溫度，顯影方式，與顯影步驟等因素來加快曝光與為曝光部分光刻膠的溶解速率。

若對顯影的要求不高，可以直接將硅片放入顯影液槽中浸泡然后取出。對于大部分對顯影要求較高的生產(chǎn)及實驗過程，通常使用的勻膠顯影機來自動控制顯影過程，如圖3回x回 e

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蝕刻加工中，顯影工作非常重要，它是確定產(chǎn)品外形精度的決定因素，若曝光不到位，產(chǎn)品就不能得到設(shè)計的形狀，影響產(chǎn)品的功能與性能。改善零件的機械性能，機械零件經(jīng)噴砂后，能在零件表面產(chǎn)生均勻細微的凹凸面，使?jié)櫥偷玫酱鎯Γ瑥亩節(jié)櫥瑮l件改善，并減少噪聲提高機械使用壽命。因此需要選擇合適的曝光機來進行加工，深圳鑫海森自成立以來，主要專注于精密蝕刻加工的生產(chǎn)，更多的是外貿(mào)業(yè)務(wù)，金屬蝕刻加工產(chǎn)品質(zhì)量要求較高，因此鑫海森購入國外進口曝光機及自動化蝕刻加工設(shè)備6條，為客戶提供更好的加工質(zhì)量，滿足客戶各批量精密零件蝕刻加工需求。

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在金屬蝕刻加工過程中，其中有曝光顯影的部分，將需要蝕刻與不需要蝕刻圖案在材料上區(qū)分開來，那么怎么準備曝光顯影圖案呢？其實是通過制作菲林，通過菲林上制作的圖案，進行曝光顯影后將蝕刻與非蝕刻部分區(qū)分開來。

膠印菲林

膠印的印版應(yīng)該是正字，印到膠布上的是反字，后再轉(zhuǎn)印到金屬材料或其它介質(zhì)上的時候呈現(xiàn)出的是正圖文。

大家知道，印版的圖文是用菲林片經(jīng)過曬版工藝得到的，菲林有一定的厚度，為了盡可能地讓圖案與材料充分接觸，菲林的圖文曬版時應(yīng)該在下方，同時在上方觀察的效果應(yīng)該是正圖文，只有這樣才能保證藥膜與材料的零距離接觸。如不銹鋼工件、塑膠的打磨，玉器的磨光，木制家具表面亞光化，磨砂玻璃表面的花紋圖案，以及布料表面的毛化加工等。(因為菲林具有厚度，如果藥膜與材料之間間隔一層透明膜，曬版時光線會發(fā)生折射，印版經(jīng)曝光的得到圖案損失變形，會影響效果。)

所以拿膠印菲林，閱讀內(nèi)容時，其藥膜應(yīng)該是在反面的，因此，通常稱藥膜朝下或反圖文，也就是說，如果藥膜在上面的話，我們看到的內(nèi)容應(yīng)該是反圖文，即鏡像效果。