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預表面準備:在進行鍍膜之前,需要對器件表面進行準備,以確保其清潔和平整。這可能包括去除油脂、灰塵和其他雜質,并進行表面研磨或拋光。
3. 鍍液制備:根據要求的鍍膜類型和材料,制備合適的鍍液。鍍液通常包括金屬離子、添加劑和用于調控鍍液pH值的溶液。
一些常見的光學表面鍍膜的厚度包括:
1. 單層膜厚度
在單層反射鍍膜中,膜厚度的精度是關鍵因素。膜層的厚度通常在0.1 ~ 2微米之間,具體厚度取決于光學元件的應用。如果滿足需要的反射或透射波長,則反射和透射率將化。
多層膜厚度
多層反射鍍膜通過鍍疊多層膜組件,在不同波長上實現反射率。在這種情況下,必須地掌握每個膜層的厚度。通常,每層膜的厚度從0.1 ~ 0.3微米不等。