無(wú)塵室的潔凈度往往受到氣流的影響，換言之，即人、機(jī)器隔間、建筑結(jié)構(gòu)等所產(chǎn)生的塵埃之移動(dòng)、擴(kuò)散受到氣流的支配。無(wú)塵室系利用HEPA、ULPA過(guò)濾空氣，其塵埃的收集率達(dá)99.97~99.99995%之多，因此經(jīng)過(guò)此過(guò)濾器過(guò)濾的空氣可說(shuō)十分干凈。然而無(wú)塵室內(nèi)除了人以外，尚有機(jī)器等之發(fā)塵源，這些發(fā)生的塵埃一旦擴(kuò)散，即無(wú)法保持潔凈空間，因此必須利用氣流將發(fā)生的塵埃迅速排出室外。當(dāng)然這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)中符合灰塵標(biāo)準(zhǔn)的顆粒相對(duì)于我們常見(jiàn)的灰塵已經(jīng)是小的微乎其微，但是對(duì)于光學(xué)構(gòu)造而言，哪怕是一點(diǎn)點(diǎn)的灰塵都會(huì)產(chǎn)生非常大的影響，所以在光學(xué)構(gòu)造產(chǎn)品的生產(chǎn)上，無(wú)塵是必然的要求。

工業(yè)無(wú)塵室用途——以無(wú)生命微粒的控制為對(duì)象。無(wú)塵室（無(wú)塵廠房）主要控制空氣塵埃微粒對(duì)工作對(duì)象的污染，內(nèi)部一般保持正壓狀態(tài)。它適用于精密機(jī)械工業(yè)、電子工業(yè)（半導(dǎo)體、集成電路等）宇航工業(yè)、高純度化學(xué)工業(yè)、原子能工業(yè)、光磁產(chǎn)品工業(yè)（光盤、膠片、磁帶生產(chǎn)）LCD（液晶玻璃）、電腦硬盤、電腦磁頭生產(chǎn)等多種不同行業(yè)。機(jī)器及材料帶進(jìn)無(wú)塵室前，應(yīng)盡可能在密封狀態(tài)下帶進(jìn)無(wú)塵室前室保養(yǎng)后用超純水擦拭，經(jīng)風(fēng)淋室吹淋后才進(jìn)入無(wú)塵室。

發(fā)塵量無(wú)塵室內(nèi)的發(fā)塵量，來(lái)自設(shè)備的可考慮通過(guò)局部排風(fēng)排除，不流入室內(nèi)；產(chǎn)品，材料等在運(yùn)送過(guò)程中的發(fā)塵與人體發(fā)塵量相比，一般量小，可忽略；由于金屬半壁（彩鋼夾心板）的應(yīng)用來(lái)自建筑表面的發(fā)塵也很少，一般占10%以下，發(fā)塵主要來(lái)自人，占90%左右。在人的發(fā)塵量上，由于服裝材料和樣式的改進(jìn)，發(fā)塵量也不斷減少。A、材質(zhì)：棉質(zhì)發(fā)塵量大，以下依次為棉、的確良、去靜電純滌綸、尼龍。B、樣式：大掛式發(fā)塵量大，上下分裝型次之，全罩型少；6）人類在頭部和軀干做動(dòng)作時(shí)每分鐘將產(chǎn)生1000000個(gè)大于0。C、活動(dòng)：動(dòng)作時(shí)的發(fā)塵量一般達(dá)到靜止時(shí)間3-7倍；D、清洗：用溶劑洗滌的發(fā)塵量降至用一般水清洗的五分之一。室內(nèi)維護(hù)結(jié)構(gòu)表面發(fā)塵量，以地面為準(zhǔn)，大約相應(yīng)8平方米地面時(shí)的表面發(fā)塵量與一個(gè)靜止的人的發(fā)塵量相當(dāng)。

簡(jiǎn)易無(wú)塵室是一種可提供局部高潔凈環(huán)境的空氣凈化設(shè)備。簡(jiǎn)易無(wú)塵室主要由箱體、風(fēng)機(jī)、初效空氣過(guò)濾器、阻尼層、燈具等組成，外殼噴塑。

產(chǎn)品配制

1.框架：以工業(yè)鋁材（或不銹鋼方通、鐵方通噴塑）作為框架穩(wěn)固、美觀、不生銹、不產(chǎn)塵；

2.防靜電垂簾：四周圍用防靜電垂簾（或鋼化玻璃），防靜電效果好、透明度高、網(wǎng)格清晰、柔韌度好、不變形、不易老化；

3.風(fēng)機(jī)濾網(wǎng)機(jī)組FFU：，采用離心風(fēng)機(jī)，內(nèi)部?jī)艋?jí)別可達(dá)100-100K級(jí)；

4.內(nèi)部采用凈化室凈化燈，不產(chǎn)塵；