濺射技術(shù)：濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是制備濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。背靶的選擇對材質(zhì)的要求：一般選用無氧銅和鉬靶，厚度在3mm左右導電性好：常用無氧銅，無氧銅的導熱性比紫銅好。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、太陽能光伏、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。

工業(yè)上大量使用的是工業(yè)純稀土金屬，較高純度的稀土金屬主要供測定物理化學性能之用。主要有四種提純方法在試驗室中使用，即真空熔融，真空蒸餾或升華，電遷移和區(qū)域熔煉。這種超純鋁除用于制備化合物半導體材料外，還在低溫下有高的導電性能，可用于低溫電磁設(shè)備。 稀土金屬棒在區(qū)域熔煉爐中以很慢的速度（如提純釔時為0.4毫米/分），進行多次區(qū)熔，對去除鐵、鋁、鎂、銅、鎳等金屬雜質(zhì)有明顯效果，但對氧、氮、碳、氫無效。此外，電解精煉、區(qū)熔－電遷移聯(lián)合法提純稀土也有一定效果。

隨著黃金資源的開采緊張，民用、科技、軍事、航天等用黃金量的增加，促使黃金價格節(jié)節(jié)上漲。電子廢料與黃金等成品之間的差價是比較固定的，而金銀做為，不論在任何時候總是增值的，因此銷售市場不存在問題。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應。電子垃圾成為黃金新礦源，取之不絕，用之不盡。真正實現(xiàn)了環(huán)保的處理、循環(huán)再生利用。可見，電子垃圾的問題并不是不能解決，只要能讓電子垃圾“從科技中來，到科技中去”，就可以變廢為寶，產(chǎn)生良好的經(jīng)濟和社會效益。