3分鐘前 蚌埠半導體氧化設(shè)備公司服務(wù)介紹 蘇州潤璽[蘇州潤璽f9f1caf]內(nèi)容：為什么零部件需要去除油污:減少部件表面上的離子雜質(zhì)。滿足容器排氣（outgassing)性能的測試 (由第三方實驗室檢測).此測試檢測出了在真空下嵌入金屬表面的有機材料的數(shù)量和成分。如果測試中的數(shù)量太大，則意味著終的加工設(shè)備很難將容器真空至全真空狀態(tài)。815 GD 在這些測試中都有的表現(xiàn)， 主要表現(xiàn)為的清潔能力以及測試中未發(fā)現(xiàn)清洗劑的殘留。

使用過程產(chǎn)品: AquaVantage 815 GD濃度: 10%溫度: 131-140°F (55°C)設(shè)備: 2 套單獨的清洗流程, 200L 超聲波設(shè)備, 4000L 浸沒設(shè)備。沖洗: 3 個階段: 自來水, 去離子水以及終的去離子水. 所有的沖洗需要在接近 22 – 25°C的環(huán)境進行.通過一個閉環(huán)去離子水系統(tǒng)(水通過去離子水床的連續(xù)循環(huán))，終的沖洗被控制在至少4兆歐姆的電阻率。結(jié)論: 具有持續(xù)良好的清潔能力 。BHC 的優(yōu)勢: 的排氣性能和清洗部件能力。使用BRULIN815GD清洗的半導體設(shè)備零部件，為更好地去除水分和揮發(fā)極低的有機物，要需零部件進行后處理：在惰性氣體、真空度為0.13Pa、設(shè)定溫度為500K（227°）的烘烤箱進行烘烤，進行裝配。

在濕法清洗工藝路線下，目前主流的清洗設(shè)備主要包括單片清洗設(shè)備、槽式清洗設(shè)備、組合式清洗設(shè)備和批式旋轉(zhuǎn)噴淋清洗設(shè)備等，其中單片清洗設(shè)備市場份額占比高。濕法清洗工藝路線下主流的清洗設(shè)備存在先進程度的區(qū)分，主要體現(xiàn)在可清洗顆粒大小、金屬污染、腐蝕均一性以及干燥技術(shù)等標準。目前至純科技主要生產(chǎn)濕法清洗設(shè)備，提供槽式設(shè)備（槽數(shù)量按需配置）及單片機設(shè)備（8-12 反應腔），均可以覆蓋 8-12 寸晶圓制造的濕法工藝設(shè)備。