金百辰智能科技（浙江）有限公司從事汽車零部件、家電類、機械配件等塑膠成型與pvd鍍膜工藝加工。

pvd鍍膜加工與您分享PVD真空鍍膜技術是在原來的水平之上，進行一些材料生成的這種技術，應用的過程中可以通過對手機殼內壁，做一些防護層，這樣就能夠更好的減少電磁波的輻射，進而減少對人們身體所造成的危害。如今技術方面得到了更多的進步，在應用的過程中，能夠有更好的附著力，而且高溫也可以化，所以使用的效果也都非常的好。

在手機上應用PVD真空鍍膜技術，已經對手機行業的發展有了更多的促進，目前來看，一些有電磁輻射的產品，我們都可以采用這種技術，然后進一步的對產品進行優化，真正的去保障人類的健康，在應用的過程中也能夠更好的保護環境，起到更好的作用，這才是我們大家所想要的。

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pvd鍍膜加工與您分享 磁控濺射生成的薄膜厚度的均勻性是成膜性質的一項重要指標，因此有必要研究影響磁控濺射均勻性的因素，以更好的實現磁控濺射均勻鍍膜。簡單的說磁控濺射就是在正交的電磁場中，閉合的磁場束縛電子圍繞靶面做螺線運動，在運動過程中不斷撞擊工作氣體氣電離出大量的離子，離子在電場作用下加速轟擊靶材，濺射出呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。所以要實現均勻的鍍膜，就需要均勻的濺射出靶原子（或分子），這就要求轟擊靶材的離子是均勻的且是均勻的轟擊的。由于離子在電場作用下加速轟擊靶材，所以均勻轟擊很大程度上依賴電場的均勻。而離子來源于被閉合的磁場束縛的電子在運動中不斷撞擊的工作氣體氣，這就要求磁場均勻和工作氣體氣均勻。但是實際的磁控濺射裝置中，這些因素都是不均勻的，這就有必要研究他們不均勻對成膜均勻性的影響。

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pvd鍍膜加工與您分享電子束蒸發

電子束蒸發是將鍍膜材料放入水冷銅坩堝中，用高能密度的電子束轟擊鍍膜材料而使其蒸發的一種方法。蒸發源由電子發射源、電子加速電源、坩堝(通常是銅坩堝)磁場線圈、冷卻水套等組成。在該裝置中，被加熱的物質放置于水冷的坩堝中，電子束只轟擊其中很少的一部分物質，其余的大部分物質在坩堝的冷卻作用下一直處于很低的溫度，可以看作被擊部分的坩堝。因此，電子束加熱蒸發的方法可以避免鍍膜材料和蒸發源材料之間的污染。

電子束蒸發源的結構形式可以分為直式(布爾斯)、環形(電偏轉)和e形(磁偏轉)3種。在一個蒸發裝置內可以安置一個或者多個坩堝，這可以同時或者分別蒸發沉積多種不同物質。電子束蒸發源有下述優點:

1、電子束轟擊蒸發源的束流密度高，能獲得遠比電阻加熱源更大的能量密度，可以蒸發高熔點材料，如w，Mo，A1203等:

2、鍍膜材料置于水冷銅坩堝中，可以避免發源 材料的蒸發，以及兩者之間的反應;

3、熱量可以直接加到鍍膜材料的表面，使得熱，熱傳導和熱輻射的損失少.電子束加熱蒸發方式的缺點是電子發出的一次電子和鍍膜材料表面發出的二次電子會使蒸發原子和殘余氣體分子電離，這有時候會影響膜層質量。

由于超聲波在傳遞過程中會產生低壓區和高壓區，并且氣穴現象只在低壓區發生。所以被清洗工件在超聲波中需要上下振動，使工件上的每個區域都經過低壓區以獲得“微型刷子”的清潔作用。超聲波在水中的傳遞速度為1500m/s，假設超聲渡的頻率為30000Hz，則所使用的超聲渡波長

λ=速度／頻率=1500／30000=0.05m=5cm

所以，如使用30000Hz的超聲波，工件的上下振動距離應不小于5厘米．對于其他頻率的超聲波．震動距離可以同理計算出來。在純粹的化學藥劑浸泡清洗中，清洗溶液首先溶解工件表層的污染物，并逐漸向污染層內部滲透溶解，在這個過程中，在工件表層會逐漸形成一層溶解飽和層．這層飽和層將新鮮的化學清洗液與深層的污染物隔離，阻礙清洗液對深層污染物的繼續溶解，如果這層飽和層不能被破壞去掉，清潔就停止了。對于比較臟的工件，純粹的浸泡清洗方式很難將工件清潔干凈。利用超聲波的“微型刷子”的作用就可以破壞掉表層的溶解飽和層，新的化學藥劑到達較深的污染層繼續溶解，超聲波接著繼續破壞掉新形成的溶解飽和層，如此循環，清潔不斷進行下去，直到工件被清潔干凈。