真空蒸鍍?cè)韺⒈诲儽∧せ模ㄍ矤睢逞b在真空蒸鍍機(jī)中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達(dá)到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃～1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。能真正做到隔絕潮氣、風(fēng)沙灰塵，還能在海上運(yùn)輸中，有效防止海水的鹽堿侵蝕。氣態(tài)鋁微粒在移動(dòng)的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過(guò)控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動(dòng)速度以及鍍膜室的真空度等來(lái)控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在25～500nm，鍍鋁薄膜的寬度為800mm～2000mm。

真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。現(xiàn)在常用的定量檢測(cè)方法是在一定的溫度、壓力和時(shí)間下，用EAA薄膜（厚度20－50um，AA含量一般在9%左右）與鍍鋁膜的鍍鋁層進(jìn)行熱封，將熱封后的樣品裁成15mm寬，在拉力試驗(yàn)機(jī)上進(jìn)行剝離試驗(yàn)，觀察并記錄剝離力的大小以及鍍鋁層被剝離的面積。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動(dòng)能量超過(guò)表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)的作用下的高速運(yùn)動(dòng)轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來(lái)而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。

真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法，其優(yōu)點(diǎn)是加熱源的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，造價(jià)低廉，操作方便；缺點(diǎn)是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。本著以質(zhì)取勝、以人為本、精益求精、嚴(yán)格管理的方針，大力加強(qiáng)科技投入，資源配置和新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)，為需求群體提供優(yōu)質(zhì)的鍍鋁膜，努力擴(kuò)大市場(chǎng)網(wǎng)絡(luò)，爭(zhēng)創(chuàng)國(guó)內(nèi)實(shí)力產(chǎn)品。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點(diǎn)。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對(duì)被轟擊材料加熱，電子束的動(dòng)能變成熱能，使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，但由于大功率激光器的造價(jià)很高，目前只能在少數(shù)研究性實(shí)驗(yàn)室中使用。

濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同。“濺射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。華福包裝材料有限公司自成立以來(lái)，堅(jiān)持以“科技立業(yè)，誠(chéng)信為本，質(zhì)量贏客戶(hù)”為廣大需求群體提供優(yōu)質(zhì)的鍍鋁膜。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，常稱(chēng)為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因?yàn)殡x子在電場(chǎng)下易于加速獲得所需要?jiǎng)幽埽虼舜蠖疾捎秒x子作為轟擊粒子。濺射過(guò)程建立在輝光放電的基礎(chǔ)上，即濺射離子都來(lái)源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射是利用環(huán)狀磁場(chǎng)控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比，有許多優(yōu)點(diǎn)。如任何物質(zhì)均可以濺射，尤其是高熔點(diǎn)，低蒸氣壓的元素和化合物；濺射膜與基板之間的附著性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重復(fù)性好等。缺點(diǎn)是設(shè)備比較復(fù)雜，需要高壓裝置。此外，將蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合，即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是得到的膜與基板間有極強(qiáng)的附著力，有較高的沉積速率，膜的密度高。

怎么測(cè)量鍍鋁膜的厚度、牢度、均勻度

1、通常采用下述三種方法來(lái)測(cè)量鍍鋁膜的厚度：

A.光密度法:即以光線透過(guò)鍍鋁膜的密度來(lái)測(cè)量。用光密度法測(cè)量鍍鋁膜的厚度方便、準(zhǔn)確。

B.采用表面方塊電阻測(cè)量法，這種方法比較簡(jiǎn)單實(shí)用。通常來(lái)說(shuō)，鋁層厚度對(duì)應(yīng)的表面電阻一般在1~2之間。

C.目測(cè)估算法：即把兩層鍍鋁膜疊在一起對(duì)著日光燈或天空看，以看不見(jiàn)的光線為準(zhǔn)，鍍層厚度應(yīng)達(dá)400?以上。

2、鍍鋁牢度

一般是用膠帶來(lái)檢測(cè)鍍鋁牢度的。

具體方法為：把長(zhǎng)約15cm的膠粘帶貼在鍍鋁面上并用手指壓平，然后用一只手壓住樣品，另一只手勻速剝離膠粘帶，再用帶強(qiáng)光的燈箱檢驗(yàn)鋁層脫落轉(zhuǎn)移的情況便可。

或者把一種特別制備的試驗(yàn)?zāi)づcPET鍍鋁膜按一定的熱封條件熱封，裁樣后再用拉伸試驗(yàn)機(jī)剝離，測(cè)定剝離力并檢查熱封面積中的鋁層轉(zhuǎn)移情況。

3、鍍鋁膜鍍層的均勻度

電阻層電阻的偏差，實(shí)際就是反映了鍍鋁層的均勻度。表面鍍鋁的作用是遮光、防紫外線照射，既延長(zhǎng)了內(nèi)容物的保質(zhì)期，又提高了薄膜的亮度，具有價(jià)廉、美觀及較好的阻隔性能，目前主要應(yīng)用于餅干等干燥、膨化食品包裝以及一些醫(yī)l藥、化妝品的外包裝上。沿被測(cè)樣品橫向等距離地取8~10個(gè)規(guī)格為100mm×100mm的試樣，用電阻測(cè)量?jī)x分別測(cè)出方塊的電阻值，取其算數(shù)平均值，即為該試樣的鍍層電阻，再計(jì)算其電阻值的上、下偏差，便可知道鍍鋁膜鍍鋁層的均勻度。

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