氦質譜檢漏儀常用檢漏方法及標準

氦質譜檢漏法是利用氦質譜檢漏儀的氦分壓力測量原理，實現被檢件的氦泄漏量測量。例如，夏天，室溫達到30℃，這種標準漏孔的漏率誤差增加30%。當被檢件密封面上存在漏孔時，示漏氣體氦氣及其它成分的氣體均會從漏孔泄出，泄漏出來的氣體進入氦質譜檢漏儀后，由于氦質譜檢漏儀的選擇性識別能力，僅給出氣體中的氦氣分壓力信號值。在獲得氦氣信號值的基礎上，通過標準漏孔比對的方法就可以獲得漏孔對氦泄漏量。

根據檢漏過程中的示漏氣體存貯位置與被檢件的關系不同，可以將氦質譜檢漏法分為真空法、正壓法、真空壓力法和背壓法，下面分別總結了這四種氦質譜檢漏法的檢測原理、優缺點及檢測的標準。

氦質譜檢漏儀光無源器件檢漏

光無源器件是不含光能源的光能器件的總稱。光無源器件在光路中都要消耗能量，插入損耗是其主要性能指標。或使用濃度不低于5~10%的氦氣混合氣體，使用完后，可直接向大氣中排放，要注意周圍環境中的氦氣的濃度，注意周圍環境中空氣的流動情況，因為這會影響到吸槍法的檢測精度。光無源器件有光纖連接器、光開關、光衰減器、光纖耦合器、波分復用器、光調制器、光濾波器、光隔離器、光環行器等。它們在光路中分別實現連接、能量衰減、反向隔離、分路或合路、信號調制、濾波等功能。本文主要介紹氦質譜檢漏儀在無源器件中的檢漏應用。

光無源器件是不含光能源的光功能器件的總稱。光無源器件在光路中都要消耗能量，插入損耗是其主要性能指標。光無源器件對密封性的要求極高，如果存在泄漏會影響其使用性能和精度，光通信行業的漏率標準是小于5×10-8mbar。光無源器件有光纖連接器、光開關、光衰減器、光纖耦合器、波分復用器、光調制器、光濾波器、光隔離器、光環行器等。它們在光路中分別實現連接、能量衰減、反向隔離、分路或合路、信號調制、濾波等功能。本文主要介紹氦質譜檢漏儀在無源器件中的檢漏應用。

無源器件檢漏原因：光無源器件是光纖通信設備的重要組成部分，也是其它光纖應用領域不可缺少的元器件。具有高回波損耗、低插入損耗、高可靠性等特點。這一檢漏方式是基于分子泵對不同質量的氣體具有不同壓縮比（氣體在分子泵出氣口壓強與進氣口壓強之比）即利用不同氣體的逆擴散程度不同程度而設計的。光無源器件對密封性的要求極高，如果存在泄漏會影響其使用性能和精度，光通信行業的漏率標準是小于 5×10-8 mbar.l/s，因此需要進行泄漏檢測。氦質譜檢漏法利用氦氣作為示蹤氣體可準確定位，定量漏點，替代傳統泡沫檢漏和壓差檢漏，目前已廣泛應用于光無源器件的檢漏。

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氦質譜檢漏儀的主要及時指標

北京科創鼎新真空技術有限公司（簡稱：科創真空）是從事真空系統設計、制造及真空技術服務的化公司。公司致力于真空氦檢漏設備、非標真空系統設計開發與制造。

1. 較小可檢漏率：5×10-12Pa·m3/s

2. 漏率顯示的范圍：1×10-3—1×10-12Pa·m3/s

3. 啟動時間：≤5min

4. 響應時間：≤1s

5. 檢漏口的較高壓力：1500Pa

6. 電源要求：220v，50Hz，單相，10A

7. 工作環境：5-35℃

8. 相對濕度：≤80%

9. 外形尺寸：550（w）×400（D）×780（H）

10. 重量：64kg

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氦質譜檢漏儀的基本原理及主要組成部分

氦質譜檢漏儀的性能、特性好壞取決于質譜分析室。今天科創真空的小編和大家分享的是氦質譜檢漏儀對示漏氣體的要求及選擇，如果您想了解更多您可撥打圖片上的電話進行咨詢。質譜分析室的工作原理是對離子源氣體進行電離，電離出來的正離子經過電場加速聚焦通過縫隙進入均勻磁場，離子束在磁場力的作用下，旋轉180o或90o按一定軌跡到達收集極，此種形式稱之為磁性偏轉分析形式。然后，經小電流放大器、微處理器，控制器等線路處理直至液晶屏顯示出讀數的大小1。

三．氦質譜檢漏儀在壓力容器中的常用方法

在壓力容器中，使用氦質譜檢漏儀檢漏常用的方法大體可分為三種，即噴氦法（負壓法），吸槍法（正壓法），氦罩法。檢漏時，用連接在裝有氦氣的氣瓶上的噴槍向懷疑有漏泄的部位噴氦氣，如果有氦氣從漏孔中流入壓力容器裝置，則裝置內的氦分壓就會上升，氦檢漏儀上就會顯示有泄漏率。就幾種方法的靈敏度比較而言，噴氦法的靈敏度高些。但是當檢漏儀安裝在大型的、比較復雜的壓力容器裝置上時，也不敢確切地說噴氦法的靈敏度就是高。