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真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)突破性技術(shù),利用物理或者化學(xué)方法并吸收一系列新技術(shù)而成的工藝,目的就是為了在實(shí)際生產(chǎn)中為產(chǎn)品創(chuàng)造薄膜保護(hù)層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍?nèi)N。
為什么需要進(jìn)行真空鍍膜呢?以pld為例,因素主要有:靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時(shí)間。這項(xiàng)工藝已經(jīng)成為了電子元器件制造中的一項(xiàng)不可或缺的技術(shù),主要是為了使產(chǎn)品表面具有耐磨損耐高溫,耐腐蝕等優(yōu)于產(chǎn)品本身的性能,從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量,延長(zhǎng)加工產(chǎn)品的使用壽命,不僅如此,還可以節(jié)約能源,獲得更為顯著的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益。
實(shí)際應(yīng)用中,我們往往會(huì)根據(jù)產(chǎn)品的性質(zhì)來(lái)決定選用哪種真空鍍膜工藝。磁控濺射鍍主要用于金屬產(chǎn)品,蒸發(fā)鍍主要用于塑膠產(chǎn)品,光學(xué)離子鍍主要用于璃玻產(chǎn)品。濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。真空電鍍?yōu)榇趴貫R射鍍,以電鍍不銹鋼產(chǎn)品材質(zhì)為主,可以電鍍金色、玫瑰金色、黑色、槍色、藍(lán)色等顏色,質(zhì)量穩(wěn)定,品質(zhì)保障。
防水納米液真空鍍膜技術(shù)的特點(diǎn),真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。除化學(xué)氣相沉積法外,其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn):
(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境,制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng),不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾,并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。
底涂烘干:鍍膜油系列均為自干型漆,烘干的目的是為了提高生產(chǎn)效率。烘干完成的要求是漆膜完全干燥。
電子鍍膜:鍍膜時(shí),應(yīng)保證電子鍍膜機(jī)的真空度達(dá)到要求后,再加熱鎢絲,并嚴(yán)格控制加熱時(shí)間。同時(shí),應(yīng)掌握好鍍膜用金屬(如鋁線)的量,太少可能導(dǎo)致金屬膜遮蓋不住底材,太多則除了浪費(fèi)外,還會(huì)影響鎢絲壽命和鍍膜質(zhì)量。
面涂:通常面涂的目的有以下兩個(gè)方面:
A、提高鍍件的耐水性、耐腐蝕性、耐磨耗性;
B、為水染著色提供可能。