真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺鍍膜機(jī)射、MBE分子束外延鍍膜機(jī)和PLD激光濺射沉積鍍膜機(jī)等很多種。真空鍍膜機(jī)對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，蒸發(fā)或?yàn)R射出的成膜材料是在一般磁控濺射條件下與待鍍工件形成膜的過程。無論是金屬、合金、化合物、陶瓷還是有機(jī)物，都可以氣相沉積各種金屬膜和介質(zhì)膜，不同的材料可以同時(shí)氣相沉積得到多層膜。

真空鍍膜是在原子水平上進(jìn)行材料生成的技術(shù)，鍍層的晶料度在10納米左右，屬于納米材料的范疇。通過對(duì)殼內(nèi)壁真空鍍電磁防護(hù)膜層，可以極大地防止因電磁波輻射而對(duì)手機(jī)使用者造成的危害。真空鍍膜技術(shù)的研究”，主要解決的是鍍膜的工藝問題，包括電阻率、附著力、高溫性、膜層表面光亮度以及復(fù)雜區(qū)域的膜層附著問題。根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型的鍍膜設(shè)備，其類型有電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、磁控反應(yīng)濺射、離子鍍、空心陰極離子鍍、多弧離子鍍等。

真空鍍膜設(shè)備穩(wěn)壓器！穩(wěn)壓器是保障設(shè)備精密電子元器件不遭受電流破壞的一種必備部件，城市供電的電壓忽高忽低變化是再正常不過的事情，穩(wěn)壓器解決了真空鍍膜設(shè)備運(yùn)行中電壓電流瞬時(shí)過載對(duì)于元件的沖擊，從而大大提高了系統(tǒng)運(yùn)行可靠性。

穩(wěn)壓器應(yīng)該具備一定性能：安全、省電、平穩(wěn)、快速且范圍廣。

安全：過載保護(hù)、模組設(shè)計(jì)、自動(dòng)旁路。

省電：低的功耗設(shè)計(jì)，超低的空載電力消耗。

平穩(wěn)：不波動(dòng)，保持不間斷的平穩(wěn)電流輸出。

快速：電壓偵測(cè)須靈敏，具有快速的反應(yīng)時(shí)間。

范圍廣：支持電壓波動(dòng)范圍要廣泛，負(fù)載范圍必須要廣。

真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個(gè)大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用。

在真空鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下，開動(dòng)真空鍍膜機(jī)時(shí)，須先開水管，工作中應(yīng)隨時(shí)注意水壓。

在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不得觸動(dòng)，以防觸電。

鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)排除有害粉塵。