真空鍍膜加工是利用物理沉積作用將在上面涂附一層金屬膜，具有比原有表面更耐磨、耐腐蝕等優(yōu)于材料本身的性能，經(jīng)過鍍膜加工膜層使產(chǎn)品達(dá)到延長使用壽命，提高質(zhì)量的效果。

加工產(chǎn)品前必須做好表面的清潔工作，不同的材質(zhì)加工流程不一樣，但是必須遵循產(chǎn)品加工的要求才能出性能優(yōu)異的產(chǎn)品，無水無油的五金小件產(chǎn)品可以直接加工，其他材質(zhì)在前期需進(jìn)行打底層保護(hù)。

真空鍍膜加工工藝中，要求裝配到高真空環(huán)境的零件，事先都需要小心地進(jìn)行清洗處理，否則各種污染物可成為大量氣體和蒸氣的來源，會大大延長真空器件的排氣時間，不易獲得高真空。

真空鍍膜它不同于一般水鍍著色電鍍，具有更耐磨，更耐腐蝕、硬度更高等優(yōu)點(diǎn)，產(chǎn)品不易變色，顏色持久耐用，更能提升產(chǎn)品的檔次。

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真空鍍膜加工中頻磁控濺射

目標(biāo)源可分為平衡源和非平衡源。平衡靶源的涂層均勻，且非平衡靶源的涂層與基材的附著力強(qiáng)。平衡靶源主要用于半導(dǎo)體光學(xué)薄膜，非平衡靶源主要用于裝飾膜的佩戴。

無論平衡還是不平衡，如果磁鐵是靜止的，其磁性決定了現(xiàn)有材料的利用率通常小于3。為了提高靶材的利用率，可以采用旋轉(zhuǎn)磁場。然而，旋轉(zhuǎn)磁場需要一個旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，并且應(yīng)降低等待速率。旋轉(zhuǎn)磁場主要用于大型或有價值的目標(biāo)。如半導(dǎo)體薄膜濺射。對于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，通常使用磁場靜態(tài)目標(biāo)源。