真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。真空鍍膜技術(shù)是使置待鍍金屬和被鍍塑料制品位于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜

在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、鍍膜公司分子在飛向塑料制品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學反應(yīng)（如氧化等）

一代光學鍍膜原理

抗磨損膜始于20世紀70年代初，當時認為玻璃鏡片不易磨制是因為其硬度高，而有機鏡片則太軟所以容易磨損。因此將石英材料于真空條件下鍍在有機鏡片表面，形成一層非常硬的抗磨損膜，但由于其熱脹系數(shù)與片基材料的不匹配，很容易脫膜和膜層脆裂，因此抗磨損效果不理想。將納米液滲透在無塵紙上,用于含有銀金屬材料產(chǎn)品之包裝、運輸及儲存，是一種既經(jīng)濟，又環(huán)保的長期防止硫化的理想包裝材料。

二代光學鍍膜原理

20世紀80年代以后，研究人員從理論上發(fā)現(xiàn)磨損產(chǎn)生的機理不僅僅與硬度相關(guān)，膜層材料具有“硬度/形變”的雙重特性，即有些材料的硬度較高，但變形較小，而有些材料硬度較低，但變形較大。第二代的抗磨損膜技術(shù)就是通過浸泡工藝法在有機鏡片的表面鍍上一種硬度高且不易脆裂的材料。總體來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導電效果。

防水鍍膜機膜厚測量方法，涂層的鍍膜設(shè)備控制方法是直接的石英晶體微天平(QCM)的方法，該儀器可以直接驅(qū)動的蒸發(fā)源，通過PID控制回路傳動擋板，使蒸發(fā)率。只要儀器和系統(tǒng)控制軟件的連接，它可以控制涂層的全過程。但(QCM)的準確性是有限的，鍍膜機部分原因是其監(jiān)測代替光學厚度的涂層質(zhì)量。而ABS塑膠因其結(jié)構(gòu)上的優(yōu)勢，不僅具有優(yōu)良的綜合性能，易于加工成型，而且材料表面易于侵蝕而獲得較高的鍍層結(jié)合力，所以目前在電鍍中應(yīng)用普遍。

此外，雖然QCM在低溫下非常穩(wěn)定，但溫度高，它將成為對溫度很敏感。在長時間的加熱過程中，鍍膜機很難避免傳感器為敏感的區(qū)域，導致薄膜的重大錯誤。 光學監(jiān)測是一種涂層優(yōu)選的監(jiān)控模式，鍍膜機這是因為它能準確控制膜的厚度(如果使用得當)。

減反射鍍膜:蓋板玻璃反射的環(huán)境光影響用戶視覺體驗,特別是在戶外強光環(huán)境下在移動終端上采用減反射鍍膜,減少56%的反光量。由于一層膜只能減少特定波長光的反射,減少較寬光譜的光線反射需要多層鍍膜,因而影響減反射膜效果的一個重要技術(shù)指標是鍍膜的層數(shù)。鍍膜設(shè)備可以鍍7層減反射膜,具有很好的減反射效果。減反射鍍膜意義重大,大幅提升用戶體驗:現(xiàn)階段幾乎所有手機、平板電腦屏幕在陽光下的可視效果都非常差,主要是表面蓋板玻璃(主要成分為SiO2和Al2O3)折射率較高,超過1。

減反射鍍膜:鍍膜技術(shù)是公司的核心技術(shù),即將開始減反射鍍膜的布局。

減薄:具有國內(nèi)大和獨有的5G減薄生產(chǎn)能力