磁控濺射靶材種類：金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶瓷濺射靶材，碲化物陶瓷濺射靶材，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO），磷化銦靶材（InP），鉛靶材（PbAs），銦靶材（InAs）。不僅是半導(dǎo)體材料，其他金屬也有同樣的情況，由于雜質(zhì)存在影響金屬的性能。

1：金屬鍍鈀，鍍鈀銅提鈀技術(shù)：首先把鍍鈀銅等表面鍍鈀料放入容器中，再加入自配退鈀溶液，數(shù)秒中后表面鈀退凈，取出鍍鈀銅基體(此方法對(duì)基體無傷害,再用自配化學(xué)試劑，鈀和溶液分離

2：合金含鈀，銅鈀合金提鈀技術(shù)：把銅鈀合金放入容器中，加入自配化學(xué)品把銅鈀合金溶解成液體，再用自配化學(xué)試劑把鈀和溶液分離。

3：廢鈀碳催化劑提鈀，首先用物理原理把碳等有機(jī)物去除，剩下金屬鈀，再用化學(xué)試劑溶解金屬鈀，再進(jìn)行下一步鈀分離。

王水在溶解了 的溶液中有大量的殘余和 硝基物的存在給后續(xù)提煉或精煉帶來操作困難或失敗，嚴(yán)重影響的提煉或精煉工藝順利進(jìn)行，嚴(yán)重影響回收率，故王水溶液的濃縮趕硝是緊隨溶解其后的務(wù)必工序！尤其在鉑族金屬的精煉中嚴(yán)重影響水解的順利進(jìn)行和回收率。

王水溶液的濃縮趕硝故名思議是兩段工序，濃縮的目的是將溶液中可在沸騰下?lián)]發(fā)的酸和水盡量揮發(fā)徹底，以便適合趕硝的藥劑和濃度盡量高的無水硝基物或殘余快速反應(yīng)，以達(dá)到徹底趕硝的目的。