中國是iPhone的生產基地，也是手機殼的制造國，而生產手機的企業則是忙得不亦樂乎了，成批量的手機殼、手機配件需要鍍膜裝飾，利用傳統的水鍍、電鍍膜的方法，無疑還是有很多弊端，如：環保問題、效率問題、質量外觀的問題，雖然有些可以解決，但是還是有很多值得改善的地方。面對日益嚴重的環境問題，就迫使諸多企業面臨技術上的改革革新。因此在鍍膜工藝技術上進行了更新，采用真空電鍍的鍍膜方式。真空電鍍是一種物理沉積現象。

真空電鍍工藝可能遇到的問題及對策

1.蒸發速率對蒸鍍涂層的性能影響

蒸發速率的大小對沉積膜層的影響較大。由于低的沉積速率形成的膜層結構松散易產生大顆粒沉積，為保證涂層結構的致密性，選擇較高的蒸發速率是十分安全的。當真空室內殘余氣體的壓力一定時，則轟擊基片的轟擊速率即為定值。因此，選擇較高沉積速率后的沉積的膜內所含的殘余氣體會得到減小，從減小了殘余氣體分子與蒸鍍膜材的化學反應。故，沉積膜的純度即可提高。應當注意的是，沉積速率如果過大可能增加膜的內應力，致使膜層內缺陷增大，嚴重時可導致膜層破。特別是，在反應蒸鍍過程中，為了使反應氣體與鍍膜材料粒子能夠進行充分的反應，可選擇較低的沉積速率。當然，對不同的材料蒸鍍應當選用不同的蒸發速率。作為沉積速率低會影響膜的性能的實際例子，是反射膜的沉積。如膜厚為600*10-8cm，蒸鍍時間為3S時，其反射率為93%。但是，如果在同樣的膜厚條件下將蒸速率放慢，采用10min的時間來完成膜的沉積。這時膜的厚度雖然相同。但是，反射率已下降到68%。

2.基片溫度對蒸發涂層的影響

基片溫度對蒸發涂層的影響很大。高的基片溫度吸附在基片表面上的殘余氣體分子易于排出。特別是水蒸氣分子的排除更為重要。而且，在較高的溫度下不但易于促進物理吸附向化學吸附的轉變，從而增加粒子之間的結合力。而且還可以減少蒸汽分子的再結晶溫度與基片溫度兩者之間的差異，從而減少或消除膜基界面的內應力。此外，由于基片溫度與膜的結晶狀態有關，在基片溫度低或不加熱的條件下，往往容易形成非結晶態涂層。相反在較高溫度時，則易于生成晶態涂層。提高基片溫度也有利于涂層的力學性能的提高。當然，基片溫度也不能過高，以防止蒸發涂層的再蒸發。

真空蒸發鍍工藝流程

工件>鍍前處理>裝件>烘烤>離子轟擊>預熔>蒸發沉積>冷卻>取件>后處理>成品

真空濺射鍍工藝流程

工件>鍍前處理>裝件>抽真空>烘烤、轟擊>預熔>濺射沉積>冷卻>取件>后處理>成品

真空離子鍍工藝流程

工件>鍍前處理>裝件>抽真空>烘烤>離子轟擊>離子沉積>冷卻>取件>后處理>成品

理論上所有pvd真空鍍膜加工都可以添加運用添加劑，下面咱們來看看電鍍中運用添加劑的效果：

1.整平效果

能是基體微粗糙表面變得平坦，下降粗糙度。

2.潤濕效果

可下降金屬與溶液的界面張力，使鍍層與基體能更好附著，使陰極上分出的氫氣泡容易脫離，防止生孔。

3.細化晶粒

能改動鍍層的結晶狀況，細化晶粒使鍍層細密，在鋅酸鹽鍍鋅液中假如不加添加劑，得到的是海綿狀沉積物，參加添加劑以后，鍍層細密、詳盡而亮光。

4.亮光效果

參加亮光劑并與其他添加劑合作運用，進一步進步鍍層亮光度，是裝飾性電鍍不可或缺的成分。

pvd真空鍍膜加工所用到的添加劑還有許多其他效果，如進步鍍層硬度、下降鍍層應力等。添加劑應選擇運用，有的添加劑兼有幾種效果，在鍍液中一般含有（1——2）種添加劑。目前運用的添加劑首要是有機化合物或合成物，無機化合物也合作運用。