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公司基本資料信息
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中國(guó)是iPhone的生產(chǎn)基地,也是手機(jī)殼的制造國(guó),而生產(chǎn)手機(jī)的企業(yè)則是忙得不亦樂(lè)乎了,成批量的手機(jī)殼、手機(jī)配件需要鍍膜裝飾,利用傳統(tǒng)的水鍍、電鍍膜的方法,無(wú)疑還是有很多弊端,如:環(huán)保問(wèn)題、效率問(wèn)題、質(zhì)量外觀的問(wèn)題,雖然有些可以解決,但是還是有很多值得改善的地方。面對(duì)日益嚴(yán)重的環(huán)境問(wèn)題,就迫使諸多企業(yè)面臨技術(shù)上的改革革新。因此在鍍膜工藝技術(shù)上進(jìn)行了更新,采用真空電鍍的鍍膜方式。真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。
真空電鍍工藝可能遇到的問(wèn)題及對(duì)策
1.蒸發(fā)速率對(duì)蒸鍍涂層的性能影響
蒸發(fā)速率的大小對(duì)沉積膜層的影響較大。由于低的沉積速率形成的膜層結(jié)構(gòu)松散易產(chǎn)生大顆粒沉積,為保證涂層結(jié)構(gòu)的致密性,選擇較高的蒸發(fā)速率是十分安全的。當(dāng)真空室內(nèi)殘余氣體的壓力一定時(shí),則轟擊基片的轟擊速率即為定值。因此,選擇較高沉積速率后的沉積的膜內(nèi)所含的殘余氣體會(huì)得到減小,從減小了殘余氣體分子與蒸鍍膜材的化學(xué)反應(yīng)。故,沉積膜的純度即可提高。應(yīng)當(dāng)注意的是,沉積速率如果過(guò)大可能增加膜的內(nèi)應(yīng)力,致使膜層內(nèi)缺陷增大,嚴(yán)重時(shí)可導(dǎo)致膜層破。特別是,在反應(yīng)蒸鍍過(guò)程中,為了使反應(yīng)氣體與鍍膜材料粒子能夠進(jìn)行充分的反應(yīng),可選擇較低的沉積速率。當(dāng)然,對(duì)不同的材料蒸鍍應(yīng)當(dāng)選用不同的蒸發(fā)速率。作為沉積速率低會(huì)影響膜的性能的實(shí)際例子,是反射膜的沉積。如膜厚為600*10-8cm,蒸鍍時(shí)間為3S時(shí),其反射率為93%。但是,如果在同樣的膜厚條件下將蒸速率放慢,采用10min的時(shí)間來(lái)完成膜的沉積。這時(shí)膜的厚度雖然相同。但是,反射率已下降到68%。
2.基片溫度對(duì)蒸發(fā)涂層的影響
基片溫度對(duì)蒸發(fā)涂層的影響很大。高的基片溫度吸附在基片表面上的殘余氣體分子易于排出。特別是水蒸氣分子的排除更為重要。而且,在較高的溫度下不但易于促進(jìn)物理吸附向化學(xué)吸附的轉(zhuǎn)變,從而增加粒子之間的結(jié)合力。而且還可以減少蒸汽分子的再結(jié)晶溫度與基片溫度兩者之間的差異,從而減少或消除膜基界面的內(nèi)應(yīng)力。此外,由于基片溫度與膜的結(jié)晶狀態(tài)有關(guān),在基片溫度低或不加熱的條件下,往往容易形成非結(jié)晶態(tài)涂層。相反在較高溫度時(shí),則易于生成晶態(tài)涂層。提高基片溫度也有利于涂層的力學(xué)性能的提高。當(dāng)然,基片溫度也不能過(guò)高,以防止蒸發(fā)涂層的再蒸發(fā)。
真空蒸發(fā)鍍工藝流程
工件>鍍前處理>裝件>烘烤>離子轟擊>預(yù)熔>蒸發(fā)沉積>冷卻>取件>后處理>成品
真空濺射鍍工藝流程
工件>鍍前處理>裝件>抽真空>烘烤、轟擊>預(yù)熔>濺射沉積>冷卻>取件>后處理>成品
真空離子鍍工藝流程
工件>鍍前處理>裝件>抽真空>烘烤>離子轟擊>離子沉積>冷卻>取件>后處理>成品
理論上所有pvd真空鍍膜加工都可以添加運(yùn)用添加劑,下面咱們來(lái)看看電鍍中運(yùn)用添加劑的效果:
1.整平效果
能是基體微粗糙表面變得平坦,下降粗糙度。
2.潤(rùn)濕效果
可下降金屬與溶液的界面張力,使鍍層與基體能更好附著,使陰極上分出的氫氣泡容易脫離,防止生孔。
3.細(xì)化晶粒
能改動(dòng)鍍層的結(jié)晶狀況,細(xì)化晶粒使鍍層細(xì)密,在鋅酸鹽鍍鋅液中假如不加添加劑,得到的是海綿狀沉積物,參加添加劑以后,鍍層細(xì)密、詳盡而亮光。
4.亮光效果
參加亮光劑并與其他添加劑合作運(yùn)用,進(jìn)一步進(jìn)步鍍層亮光度,是裝飾性電鍍不可或缺的成分。
pvd真空鍍膜加工所用到的添加劑還有許多其他效果,如進(jìn)步鍍層硬度、下降鍍層應(yīng)力等。添加劑應(yīng)選擇運(yùn)用,有的添加劑兼有幾種效果,在鍍液中一般含有(1——2)種添加劑。目前運(yùn)用的添加劑首要是有機(jī)化合物或合成物,無(wú)機(jī)化合物也合作運(yùn)用。