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真空鍍膜材料工藝流程

原料粉末——配料——混料——原料預處理——成型——預燒——真空燒結——分揀——真空包裝

濺射鍍膜和蒸發鍍膜的對比：

濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優點，已成為制備薄膜材料的主要技術之一，各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場應用量 PVD 鍍膜材料。 蒸發鍍膜簡單便利、操作方便、成膜速度快。從工藝制造角度上來看，蒸鍍材料的制造復雜度要遠遠低于濺射靶材，蒸發鍍膜常用于小尺寸基板材料的鍍膜。

金百辰智能科技（浙江）有限公司從事汽車零部件、家電類、機械配件等塑膠成型與pvd鍍膜工藝加工。

pvd真空鍍膜設備公司與您分享怎么糾正真空電鍍膜層附著力差的問題？

◆一定要保證產表面打底活化處理，并且確認鍍膜工序全部處于開啟狀態

◆根據基材本身的性質不同來確定工藝參數

◆定期更換電極板，在設備上多花點時間，可以避免很多出錯

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pvd真空鍍膜設備公司與您分享真空蒸鍍工藝實例 以塑料金屬化為例,真空蒸鍍工藝包括：鍍前處理、鍍膜及后處理。

真空蒸鍍的基本工藝過程如下：

(1)鍍前處理，包括清洗鍍件和預處理。具體清洗方法有清洗劑清洗、化學溶劑清洗、超聲波清洗和離子轟擊清洗等。具體預處理有除靜電，涂底漆等。

(2)裝爐，包括真空室清理及鍍件掛具的清洗，蒸發源安裝、調試、鍍件褂卡。

(3)抽真空，一般先粗抽至6．6Pa以上，更早打開擴散泵的前級維持真空泵，加熱擴散泵，待預熱足夠后，打開高閥，用擴散泵抽至6×10-3Pa半底真空度。

(4)烘烤，將鍍件烘烤加熱到所需溫度。

(5)離子轟擊，真空度一般在10Pa～10-1Pa，離子轟擊電壓200V～1kV負高壓，離擊時間為5min～30min,

(6)預熔，調整電流使鍍料預熔，除氣1min～2min。

(7)蒸發沉積，根據要求調整蒸發電流，直到所需沉積時間結束。

(8)冷卻，鍍件在真空室內冷卻到一定溫度。

(9)出爐，．取件后，關閉真空室，抽真空至l × l0-1Pa，擴散泵冷卻到允許溫度，才可關閉維持泵和冷卻水。

(10)后處理，涂面漆。

濺射鍍膜基本原理是充(Ar)氣的真空條件下，使氣進行輝光放電，這時(Ar)原子電離成離子(Ar+)，離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面。如果采用直流輝光放電，稱直流(Qc)濺射，射頻(RF)輝光放電引起的稱射頻濺射。磁控(M)輝光放電引起的稱磁控濺射。 電弧等離子體鍍膜基本原理是在真空條件下，用引弧針引弧，使真空金壁(陽極)和鍍材(陰極)之間進行弧光放電，陰極表面快速移動著多個陰極弧斑，不斷迅速蒸發甚至“異華”鍍料，使之電離成以鍍料為主要成分的電弧等離子體，并能迅速將鍍料沉積于基體。因為有多弧斑，所以也稱多弧蒸發離化過程。