公開了一種曝光顯影設(shè)備及曝光顯影方法，以解決光阻殘留問題，且提高加工效率、降低生產(chǎn)成本。
本公開的額外方面和優(yōu)點(diǎn)將部分地在下面的描述中闡述，并且部分地將從描述中變得顯然，或者可以通過本公開的實(shí)踐而習(xí)得。
東莞市清溪利成曝光顯影
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