真空法

這種方法是在高真空狀態(tài)下令材料氣化或離子化沉積于工件表面而形成鍍層的過程。其主要方法是。

（一）物理氣相沉積（PVD）

在真空條件下，將金屬氣化成原子或分子，或者使其離子化成離子，直接沉積到工件表面，形成涂層的過程，稱為物理氣相沉積，其沉積粒子束來源于非化學(xué)因素，如蒸發(fā)鍍?yōu)R射鍍、離子鍍等。

（二）離子注入

高電壓下將不同離子注入工件表面令其表面改性的過程，稱為離子注入，如注硼等。

（三）化學(xué)氣相沉積（CVD）

低壓（有時(shí)也在常壓）下，氣態(tài)物質(zhì)在工件表面因化學(xué)反應(yīng)而生成固態(tài)沉積層的過程，稱為化學(xué)氣相鍍，如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。

PVD（技術(shù)是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，在真空條件下采用物理方法，將某種材料氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基板材料表面沉積具有增透、反射、保護(hù)導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣、耐腐蝕、防輻射、裝飾等特殊功能的薄膜材料的技術(shù)。用于制備薄膜材料的物質(zhì)被稱為 PVD鍍膜材料。濺射鍍膜和真空蒸發(fā)鍍膜是主流的兩種 PVD 鍍膜方式。

以不銹鋼鈦金舉例，大致了解一下PVD技術(shù)。不銹鋼工件清洗干凈后進(jìn)入真空罐，抽真空到10^-3Pa這個(gè)級別，再通入氮?dú)獾?.1-1.0Pa，鈦金屬放電通過等離子化的氮?dú)猓练e到（負(fù)偏壓）的工件上。沉積物是金色的氮化鈦（TiN）。

這種裝飾性鍍膜，厚度一般都是低于1微米，別想著性能有多少好。當(dāng)然了，如果有幾個(gè)微米厚度，那硬度就OK了，可以勝任切削刀具的鍍膜。

真空鍍膜材料工藝流程

原料粉末——配料——混料——原料預(yù)處理——成型——預(yù)燒——真空燒結(jié)——分揀——真空包裝

目前國內(nèi)的真空鍍膜設(shè)備制造商在不斷的增加，有幾百家，國外也很多，那么在如此眾多的品牌中如何選擇一個(gè)適合自己的供應(yīng)商?怎么選擇合適自己的真空鍍膜設(shè)備廠家呢?這就要靠大家去識別了，現(xiàn)小編與你一起來識別真正合適你的真空鍍膜設(shè)備供應(yīng)商。

要根據(jù)自己的產(chǎn)品定位來確定真空鍍膜設(shè)備制造商的等級，如果你的產(chǎn)品定位在市場，那么你必須選擇設(shè)備，反之，可選中端或中低端的極可，當(dāng)然，如果資金充足，購買一臺性能更加豐富，質(zhì)量穩(wěn)定的設(shè)備。

真空濺射鍍膜

1、真空濺射鍍膜的定義

給靶材施加高電壓（形成等離子狀態(tài)），使正荷電氣體離子撞擊靶材、金屬原子飛彈，而在樣品表面形成金屬皮膜的方法。

2、磁控濺射鍍膜的定義

電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與ya原子發(fā)生碰撞，電離出大量的ya離子和電子，電子飛向基片，ya離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。

3、輝光放電的定義

輝光放電是指在稀薄氣體中，兩個(gè)電極之間加上電壓時(shí)產(chǎn)生的一種氣體放電現(xiàn)象。