廢氣uv光氧催化設(shè)備在有機(jī)廢氣處理中的應(yīng)用還需要注意幾個(gè)問(wèn)題，首先是裂解時(shí)間是否足夠1s，氧化反應(yīng)的時(shí)間是否達(dá)到5-8s；其次提供的UV光子總功率不夠或者含氧量不足，會(huì)因?yàn)榱呀饣蜓趸煌耆梢恍┲虚g副產(chǎn)物，從而生成一些中間副產(chǎn)物，從而影響凈化效率。對(duì)高分子的有機(jī)惡臭物質(zhì)體現(xiàn)的較為明顯；UV光氧催化設(shè)備的長(zhǎng)期穩(wěn)定、，需要反應(yīng)溫度低于60攝氏度，粉塵量小于100mg/m3，相對(duì)濕度低于97%。

廢氣處理設(shè)備環(huán)保設(shè)備主要是指運(yùn)用不同工藝技術(shù)，通過(guò)回收或去除、減少排放尾氣的有害成分，達(dá)到保護(hù)環(huán)境、凈化空氣的一種環(huán)保設(shè)備，讓我們的環(huán)境不受到污染。低溫等離子廢氣處理設(shè)備低溫等離子是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時(shí)，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。

一定要注意廢氣處理的排放流量，廢氣處理的排放溫度。廢氣排污的有機(jī)污染物質(zhì)濃度，有機(jī)污染物的類別，微粒散發(fā)的水平，需要達(dá)到的污染控制程度。低溫等離子體技術(shù)是近年發(fā)展起來(lái)的廢氣處理新技術(shù)。低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，由正離子、負(fù)離子、電子和中性離子組成，因體系中正負(fù)電荷總數(shù)相等，故稱為“等離子體”。廢氣由風(fēng)機(jī)提供動(dòng)力，負(fù)壓進(jìn)入環(huán)保箱后進(jìn)入活性炭吸附層，由于活性炭吸附劑表面上存在著未平衡和未飽和的分子引力或化學(xué)鍵力，因此當(dāng)活性炭吸附劑的表面與氣體接觸時(shí)，就能吸引氣體分子，使其濃聚并保持在活性炭表面，此現(xiàn)象稱為吸附。