7分鐘前 茂名錄像機(jī)曝光顯影加工廠來電咨詢「利成感光」[利成感光38dbdb8]內(nèi)容：曝光顯影可以幫助制造微米或毫米尺寸的芯片結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)芯片的復(fù)雜功能。曝光顯影技術(shù)可以制造出復(fù)雜的三維芯片結(jié)構(gòu)，讓芯片具有更高的性能和功能。曝光顯影可以在芯片上制造微細(xì)的線路，從而實(shí)現(xiàn)快速和可靠的信號傳輸。曝光顯影可以制造微小的電容、電阻、晶體管、發(fā)光二極管或太陽能電池等晶體管器件，快速將電信號轉(zhuǎn)變?yōu)槠渌问降哪芰俊?p>

顯影噴淋（developer dispense）：在硅片表面涂覆顯影液。為了將顯影液均勻地涂覆到硅片表面上，顯影噴嘴分為以下幾種：E2噴嘴，LD噴嘴，GP噴嘴，MGP噴嘴等。在傳統(tǒng)的膠片攝影中，曝光是通過光線交互感光材料來記錄影像的過程，而顯影是通過在顯影劑溶液中，通過還原和氧化反應(yīng)，使得感光材料上的顯影晶粒排列形成的銀像得以顯影出來，

曝光顯影可以制造微小的電容、電阻、晶體管、發(fā)光二極管或太陽能電池等晶體管器件，快速將電信號轉(zhuǎn)變?yōu)槠渌问降哪芰?。曝光顯影技術(shù)可以制造出高精度微納米級別下的芯片制造工藝，大大提高了芯片質(zhì)量及其可靠性。預(yù)噴淋（p-wet）：為了提高后面顯影液在硅片表面的附著性能，先在硅片表面噴上一點(diǎn)去離子水（Deionizedwater，DIW）。

顯影液表面停留（puddle）：為了讓顯影液與光刻膠進(jìn)行充分反應(yīng)，顯影液噴淋后需要在硅片表面停留一般為幾十秒到一兩分鐘。曝光顯影加工是半導(dǎo)體工業(yè)制程中的一種加工方法，也被稱為光刻工藝。它是通過在芯片表面上涂覆一層光刻膠，并使用掩膜在光刻膠上曝光出所需要的芯片圖案，通過顯影來去除未曝光的部分，將芯片圖案準(zhǔn)確地轉(zhuǎn)移到芯片表面的制程。