退涂

退涂一般有有化學退涂和電解退涂兩種方式，兩者都是采用化學溶液與涂層表面反應的方式進行清潔舊涂層。化學退涂配液方便，設備簡單，但是退涂速度慢，不同種類的涂層需要特定的化學溶液才會有效果。電解退涂幾乎可以退掉所有涂層，并且退涂速度快、但是設備造價高昂，經濟實用性不如化學退涂。

PVD涂層有哪些常用表面處理技術主要就是上述七種技術，不同的表面處理技術作用也不同，但是對于PVD涂層質量都有良好改善，能夠增強涂層表面質量，提高使用效果。

PVD鍍膜

PVD是英文Physical Vapor Deition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。物理氣相沉積技術工藝過程簡單，對環境改善，無污染，耗材少，成膜均勻致密，與基體的結合力強。該技術廣泛應用于航空航天、電子、光學、機械、建筑、輕工、冶金、材料等領域，可制備具有耐磨、耐腐飾、裝飾、導電、絕緣、光導、壓電、磁性、潤滑、超導等特性的膜層。

金百辰智能科技（浙江）有限公司從事汽車零部件、家電類、機械配件等塑膠成型與pvd鍍膜工藝加工。

pvd真空鍍膜設備廠與您分享 PVD鍍膜加工生產故障是每個PVD鍍膜企業都會遇到的問題，排除故障是PVD鍍膜技術人員的重要職責。PVD鍍膜實踐出真知，PVD鍍膜生產的實踐性很強。要在調控PVD鍍膜生產的全過程中做到遇障不驚，PVD鍍膜途徑就是在生產實踐中摸爬滾打、堅韌實干善于思考，不斷探索和積累等。

離子鍍基本原理是在真空條件下，采用某種等離子體電離技術，使鍍料原子部分電離成離子，同時產生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負偏壓。這樣在深度負偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。

物理氣相沉積技術基本原理可分三個工藝步驟：

(1)鍍料的氣化：即使鍍料蒸發，升華或被濺射，也就是通過鍍料的氣化源。

(2)鍍料原子、分子或離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經過碰撞后，產生多種反應。

(3)鍍料原子、分子或離子在基體上沉積。