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公司基本資料信息
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ICP光譜儀
目前ICP光譜儀主要分為多道型、單道掃描型以及全譜直讀型,其中多道型和單道掃描型代表的是80年代的技術(shù)水平,它們以光電倍增管為檢測(cè)器,技術(shù)上非常成熟,但也較落后,其中多道型已幾乎退出歷史舞臺(tái),單道掃描型以其合適的價(jià)格和靈活方便仍占有一定的市場(chǎng)份額。全譜直讀型儀器代表了當(dāng)今ICP的新技術(shù)水準(zhǔn),它以CID或CCD(SCD)半導(dǎo)體器件為檢測(cè)器;中階梯光柵結(jié)合棱鏡(或平面光柵)構(gòu)成二維、高分辯率、高能量色散系統(tǒng),能同時(shí)獲得各元素譜線的信息。此類型儀器經(jīng)近十年的不斷完善和發(fā)展,目前已成為ICP光譜儀的主流。

鋼研納克:固態(tài)光源ICP,國(guó)產(chǎn)單道掃描ICP進(jìn)入固態(tài)光源時(shí)代
穩(wěn)健的全固態(tài)光源ICP光譜儀 鋼研納克 Plasma 1500
全固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小、,全自動(dòng)負(fù)載匹配,速度快、精度高,全固態(tài)光源ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性的測(cè)試,具有優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。
垂直炬管的設(shè)計(jì),具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。
簡(jiǎn)潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì),快速定位,的位置重現(xiàn)。
具有低功率待機(jī)模式,待機(jī)時(shí)降低輸出功率,減小氣體流量,僅維持等離子體運(yùn)行,節(jié)約使用成本。
實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù),以太網(wǎng)及CAN工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)總線,保障通訊可靠。

鋼研納克 Plasma2000型全譜等離子體光譜儀
2015年10月14日,中國(guó)分析測(cè)試協(xié)會(huì)組織在北京對(duì)鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司的“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”3項(xiàng)成果進(jìn)行了鑒定。本次鑒定組成員包括:清華大學(xué)張新榮、中國(guó)分析測(cè)試協(xié)會(huì)張渝英、中國(guó)分析測(cè)試協(xié)會(huì)汪正范研究員、科學(xué)儀器研究中心于科岐研究員、北分瑞利儀器有限公司章詒學(xué)、北京科技大學(xué)劉杰民。鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司賈云??偨?jīng)理、技術(shù)中心沈?qū)W靜、項(xiàng)目負(fù)責(zé)人及項(xiàng)目骨干出席本次鑒定會(huì)。
本次鑒定會(huì)由鑒定組組長(zhǎng)張新榮主持,項(xiàng)目組向組成員詳細(xì)匯報(bào)了成果情況,組審議了成果研制報(bào)告、成果查新報(bào)告、檢驗(yàn)報(bào)告和用戶報(bào)告等項(xiàng)目鑒定資料,并觀看了儀器現(xiàn)場(chǎng)操作演示,進(jìn)行了質(zhì)詢。在此基礎(chǔ)上,們進(jìn)行了認(rèn)真討論,一致同意并通過(guò)了“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”的儀器鑒定。
鑒定結(jié)論如下:
“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀” 技術(shù)指標(biāo)達(dá)到:波長(zhǎng)范圍:165~900nm;200nm處分辨率0.007nm;自主研發(fā)固態(tài)射頻發(fā)生器,功率范圍800W~1600W,連續(xù)1瓦可調(diào),功率穩(wěn)定性優(yōu)于0.1%,具有自動(dòng)匹配調(diào)諧功能;軟件一鍵點(diǎn)火,電路具有全自動(dòng)保護(hù)功能;具有儀器參數(shù)自動(dòng)優(yōu)化功能;具有激光剝蝕進(jìn)樣系統(tǒng)接口,可配備有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng)、高鹽和耐進(jìn)樣系統(tǒng),可使用有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng)直接測(cè)試油品。具有(1)成功攻克了固態(tài)射頻發(fā)生器、高分辨二維全譜光譜系統(tǒng)等關(guān)鍵技術(shù);(2)自主研發(fā)的高分辨率二維分光系統(tǒng),無(wú)需切換光路,一次曝光即可獲取全部譜線數(shù)據(jù);(3)建立了多種樣品分析的方法數(shù)據(jù)庫(kù)等點(diǎn)。該儀器技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國(guó)內(nèi)同類產(chǎn)品水平,已實(shí)現(xiàn)銷售,具有良好市場(chǎng)前景。

鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草ICP-AES
鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》
儀器信息網(wǎng)訊 2014年10月28日,委決定發(fā)布通知對(duì)2014年第二批擬立項(xiàng)項(xiàng)目(見(jiàn)附件)公開(kāi)征求意見(jiàn)。其中提出將制定《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國(guó)家推薦標(biāo)準(zhǔn)。主管部門為中國(guó)機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì),歸口單位為國(guó)工業(yè)過(guò)程測(cè)量和控制標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)會(huì),起草單位為鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司,計(jì)劃完成時(shí)間為2016年。
《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》標(biāo)準(zhǔn)將規(guī)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀的術(shù)語(yǔ)與縮略語(yǔ)、分類、要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存。
據(jù)介紹,制定該標(biāo)準(zhǔn)旨在提升我國(guó)ICP光譜儀的生產(chǎn)制造規(guī)范性,使儀器性能穩(wěn)定;通過(guò)規(guī)范生產(chǎn)提高ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè)準(zhǔn)入門檻,形成具有競(jìng)爭(zhēng)力的企業(yè)。從而縮小國(guó)產(chǎn)儀器同國(guó)外儀器的性能差距,提高國(guó)產(chǎn)ICP光譜儀的市場(chǎng)占有率。對(duì)ICP光譜儀產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要和積極的意義。
項(xiàng)目起草單位鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司研發(fā)生產(chǎn)電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀始于2006年,2009年10月,鋼研納克開(kāi)發(fā)了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年,鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀,采用中階梯光柵光學(xué)結(jié)構(gòu)和科研級(jí)CCD檢測(cè)器實(shí)現(xiàn)全譜采集,該儀器是鋼研納克“國(guó)家重大科學(xué)儀器設(shè)備開(kāi)發(fā)專項(xiàng)”成果。
