ICP光譜儀

目前ICP光譜儀主要分為多道型、單道掃描型以及全譜直讀型，其中多道型和單道掃描型代表的是80年代的技術(shù)水平，它們以光電倍增管為檢測(cè)器，技術(shù)上非常成熟，但也較落后，其中多道型已幾乎退出歷史舞臺(tái)，單道掃描型以其合適的價(jià)格和靈活方便仍占有一定的市場(chǎng)份額。全譜直讀型儀器代表了當(dāng)今ICP的新技術(shù)水準(zhǔn)，它以CID或CCD(SCD)半導(dǎo)體器件為檢測(cè)器；中階梯光柵結(jié)合棱鏡(或平面光柵)構(gòu)成二維、高分辯率、高能量色散系統(tǒng)，能同時(shí)獲得各元素譜線的信息。此類型儀器經(jīng)近十年的不斷完善和發(fā)展，目前已成為ICP光譜儀的主流。

鋼研納克：固態(tài)光源ICP，國(guó)產(chǎn)單道掃描ICP進(jìn)入固態(tài)光源時(shí)代

穩(wěn)健的全固態(tài)光源ICP光譜儀 鋼研納克 Plasma 1500

全固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小、，全自動(dòng)負(fù)載匹配，速度快、精度高，全固態(tài)光源ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性的測(cè)試，具有優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

垂直炬管的設(shè)計(jì)，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。

簡(jiǎn)潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì)，快速定位，的位置重現(xiàn)。

具有低功率待機(jī)模式，待機(jī)時(shí)降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運(yùn)行，節(jié)約使用成本。

實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù)，以太網(wǎng)及CAN工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)總線，保障通訊可靠。

鋼研納克 Plasma2000型全譜等離子體光譜儀

2015年10月14日，中國(guó)分析測(cè)試協(xié)會(huì)組織在北京對(duì)鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司的“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”3項(xiàng)成果進(jìn)行了鑒定。本次鑒定組成員包括：清華大學(xué)張新榮、中國(guó)分析測(cè)試協(xié)會(huì)張渝英、中國(guó)分析測(cè)試協(xié)會(huì)汪正范研究員、科學(xué)儀器研究中心于科岐研究員、北分瑞利儀器有限公司章詒學(xué)、北京科技大學(xué)劉杰民。鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司賈云?？偨?jīng)理、技術(shù)中心沈?qū)W靜、項(xiàng)目負(fù)責(zé)人及項(xiàng)目骨干出席本次鑒定會(huì)。

本次鑒定會(huì)由鑒定組組長(zhǎng)張新榮主持，項(xiàng)目組向組成員詳細(xì)匯報(bào)了成果情況，組審議了成果研制報(bào)告、成果查新報(bào)告、檢驗(yàn)報(bào)告和用戶報(bào)告等項(xiàng)目鑒定資料，并觀看了儀器現(xiàn)場(chǎng)操作演示，進(jìn)行了質(zhì)詢。在此基礎(chǔ)上，們進(jìn)行了認(rèn)真討論，一致同意并通過(guò)了“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”的儀器鑒定。

鑒定結(jié)論如下：

“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀” 技術(shù)指標(biāo)達(dá)到：波長(zhǎng)范圍：165~900nm；200nm處分辨率0.007nm；自主研發(fā)固態(tài)射頻發(fā)生器，功率范圍800W~1600W，連續(xù)1瓦可調(diào)，功率穩(wěn)定性優(yōu)于0.1%，具有自動(dòng)匹配調(diào)諧功能；軟件一鍵點(diǎn)火，電路具有全自動(dòng)保護(hù)功能；具有儀器參數(shù)自動(dòng)優(yōu)化功能；具有激光剝蝕進(jìn)樣系統(tǒng)接口，可配備有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng)、高鹽和耐進(jìn)樣系統(tǒng)，可使用有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng)直接測(cè)試油品。具有（1）成功攻克了固態(tài)射頻發(fā)生器、高分辨二維全譜光譜系統(tǒng)等關(guān)鍵技術(shù)；（2）自主研發(fā)的高分辨率二維分光系統(tǒng)，無(wú)需切換光路，一次曝光即可獲取全部譜線數(shù)據(jù)；（3）建立了多種樣品分析的方法數(shù)據(jù)庫(kù)等點(diǎn)。該儀器技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國(guó)內(nèi)同類產(chǎn)品水平，已實(shí)現(xiàn)銷售，具有良好市場(chǎng)前景。

鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草ICP-AES

鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》

儀器信息網(wǎng)訊 2014年10月28日，委決定發(fā)布通知對(duì)2014年第二批擬立項(xiàng)項(xiàng)目(見(jiàn)附件)公開(kāi)征求意見(jiàn)。其中提出將制定《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國(guó)家推薦標(biāo)準(zhǔn)。主管部門為中國(guó)機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)，歸口單位為國(guó)工業(yè)過(guò)程測(cè)量和控制標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)會(huì)，起草單位為鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司，計(jì)劃完成時(shí)間為2016年。

《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》標(biāo)準(zhǔn)將規(guī)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀的術(shù)語(yǔ)與縮略語(yǔ)、分類、要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存。

據(jù)介紹，制定該標(biāo)準(zhǔn)旨在提升我國(guó)ICP光譜儀的生產(chǎn)制造規(guī)范性，使儀器性能穩(wěn)定;通過(guò)規(guī)范生產(chǎn)提高ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè)準(zhǔn)入門檻，形成具有競(jìng)爭(zhēng)力的企業(yè)。從而縮小國(guó)產(chǎn)儀器同國(guó)外儀器的性能差距，提高國(guó)產(chǎn)ICP光譜儀的市場(chǎng)占有率。對(duì)ICP光譜儀產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要和積極的意義。

項(xiàng)目起草單位鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司研發(fā)生產(chǎn)電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀始于2006年，2009年10月，鋼研納克開(kāi)發(fā)了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀，采用中階梯光柵光學(xué)結(jié)構(gòu)和科研級(jí)CCD檢測(cè)器實(shí)現(xiàn)全譜采集，該儀器是鋼研納克“國(guó)家重大科學(xué)儀器設(shè)備開(kāi)發(fā)專項(xiàng)”成果。