1分鐘前 清浦計算機殼曝光顯影加工生產商誠信企業「在線咨詢」[利成感光38dbdb8]內容：當照相底片上的大光密度小于2.8時，紫外光可透過底片上的不透明區，使不透明區下面的干膜局部發生聚合；當底片上的光密底大于o.2時，紫外光難于穿過底片透明區，延長了曝光時間。為此建議底片上大光密度大于4，光密度小于o.2。顯影時，通過感光鼓和顯影輥之間的電場作用，碳粉被吸到感光鼓曝光區域。其中曝光部位電位低于顯影輥表面電位低于感光鼓未曝光部位電位。多用在數碼復合機與激光打印機中。

曝光不足，導致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會造成難顯影，留有殘膠。同時曝光影響圖案的線寬，過量曝光會使圖形線條變細，蝕刻產品線條變粗。感光(曝光)完成后就要進行下一步工作——顯影。顯影的目的是通過顯影將未曝光的地方沖走，經過曝光的地方固化，這樣就能確定需要被腐蝕和不被腐蝕的圖案。以便后續蝕刻加工的精度。

曝光顯影是一種攝影技術中常用的過程，通常用于將攝影底片或者電子傳感器中記錄的光影信息轉化為可見影像的過程。曝光是將光照射在底片或傳感器上的過程，而顯影則是將暴露的底片或傳感器做出可見影像的過程。這個過程在攝影，印刷和微電子制造等很多領域中都有應用。曝光顯影是一種用于光刻制程的技術，主要用于制造半導體芯片、液晶顯示器等微電子器件。它包含兩個階段：曝光：在將光線通過掩膜中的芯片圖案照射到光刻膠表面的過程中，使得光刻膠在芯片表面保留下芯片圖案的影像。顯影：通過將芯片表面的光刻膠所形成的圖案暴露在顯影液中進行刻蝕，去除光刻膠的非芯片圖案區域，使得芯片上僅保留出所需要的器件結構。