鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗,數(shù)十項ICP檢測標準的起草單位,重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標準GB/T 36244-2018起草單位,懂ICP應用的國產(chǎn)ICP光譜儀制造商。央企品牌，上市公司，品質(zhì)之選！

想了解更多產(chǎn)品信息您可撥打公司熱線進行咨詢！鋼研納克竭誠為您服務！

鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數(shù)

1. 光學系統(tǒng)：中階梯二維分光光學系統(tǒng)，焦距400mm

2. 譜線范圍：165nm~900nm，光學分辨率：0.007nm（200nm處）

3. 光柵規(guī)格：中階梯光柵，52.67刻線/毫米，尺寸：100mm x 50mm

4. 晶體管固態(tài)射頻發(fā)生器，小巧有效

5. 40.68MHz頻率提高信噪比，改善了檢出限

6. 自動匹配調(diào)節(jié)

7. 全組裝式炬管，降低了維護成本

8. 計算機控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動泵，具有快速清洗功能

9. 實驗數(shù)據(jù)穩(wěn)定性良好：重復性

RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；穩(wěn)定性：RSD

≤2.0%（大于3小時）

鋼研納克檢測技術(shù)股份有限公司是的ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè),主營產(chǎn)品有: ICP光譜儀,電感耦合等離子體光譜儀,國產(chǎn)ICP光譜儀,ICP光譜分析儀,全譜ICP,單道掃描ICP光譜儀,ICP-AES,ICP-OES等。源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗,數(shù)十項ICP檢測標準的起草單位,中國ICP光譜儀產(chǎn)品標準GB/T 36244-2018《電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀》起草單位,懂ICP的國產(chǎn)ICP光譜儀制造商。歡迎來電洽談

鋼研納克擬負責起草ICP-AES

鋼研納克擬負責起草《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》

儀器信息網(wǎng)訊 2014年10月28日，委決定發(fā)布通知對2014年第二批擬立項項目(見附件)公開征求意見。其中提出將制定《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家推薦標準。主管部門為中國機械工業(yè)聯(lián)合會，歸口單位為國工業(yè)過程測量和控制標準化技術(shù)會，起草單位為鋼研納克檢測技術(shù)有限公司，計劃完成時間為2016年。

《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》標準將規(guī)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀的術(shù)語與縮略語、分類、要求、試驗方法、檢驗規(guī)則、標志、包裝、運輸和貯存。

據(jù)介紹，制定該標準旨在提升我國ICP光譜儀的生產(chǎn)制造規(guī)范性，使儀器性能穩(wěn)定;通過規(guī)范生產(chǎn)提高ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè)準入門檻，形成具有競爭力的企業(yè)。從而縮小國產(chǎn)儀器同國外儀器的性能差距，提高國產(chǎn)ICP光譜儀的市場占有率。對ICP光譜儀產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要和積極的意義。

項目起草單位鋼研納克檢測技術(shù)有限公司研發(fā)生產(chǎn)電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀始于2006年，2009年10月，鋼研納克開發(fā)了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀，采用中階梯光柵光學結(jié)構(gòu)和科研級CCD檢測器實現(xiàn)全譜采集，該儀器是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發(fā)專項”成果。