10級：主要用于帶寬小于2微米的半導體工業。其空氣凈化要求僅次于1級，并且我國半導體技術也在發展之中，在未來對潔凈度的要求更加高。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。凈化工程在設計時，無論是新建還是重新改造的凈化車間，都一定依照國家相關標準、規范進行。

布置工藝的流程盡可能短，減少交叉往復，、物流走向合理。要配備人員凈化室、物料凈化室，除配備產品工序要求的用室外，還應配備潔具室、洗衣間、暫存室等，每間用室相互，凈化工程的面積應在保證基本要求前提下，與生產規模相適應。凈化工程的步的關鍵是設計，工程設計水平的好與壞將直接關系到整個工程之后的施工，還會影響凈化工程今后的穩定性、可靠性、經濟性。凈化工程在設計時，無論是新建還是重新改造的凈化車間，都一定依照國家相關標準、規范進行。

濕度過高產生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。凈化工程的一般施工程序：粉塵作業，無塵作業后，不允許交叉作業。 否則會影響項目的質量。 也就是說，在完成所有粉塵產生操作之后，可以進行無塵操作。1級：主要應用于電子工業，這是目前對凈化工程要求高的環境，集成電路要求的精度要達到亞微米。隨著微電子工業技術領域的突飛猛進，對潔凈室的要求越來越高。及時生產間內的例子直徑僅有1微米，也會使產品壽命受到影響。

在實際施工中，凈化項目通常分為，分工和分時。 這種安排有利于各種和工作類型的管理。 但是，易于進行多塵和無塵的交叉操作，應盡可能避免這種結構布置。 如果不可避免，應該防止灰塵和有效清潔。凈化工程技術的興起不過是上個世紀的事情，但今天凈化技術發揮著重要作用則是有目共睹的。隨著產品向著、精、尖方向發展，對凈化車間的依賴度也越來越高。100級：是常用的凈化工程，除了對空氣中的塵埃數有要求，對空氣中細菌的濃度也有明確要求。一般用于醫行業進行無菌制造，例如制造臨床用于植入人體內的物品，藥生產。醫學科學實驗也在此環境中，包括實驗動物飼養環境。