1分鐘前 新沂手機殼LOGO曝光顯影設計服務周到「多圖」[利成感光38dbdb8]內容：顯影工藝一般步驟如下：圖2 顯影工藝步驟1.預噴淋（p-wet）：為了提高后面顯影液在硅片表面的附著性能，先在硅片表面噴上一點去離子水（Deionizedwater，DIW）。2.顯影噴淋（developer dispense）：曝光顯影工藝流程說明：1. 洗版：將磁鐵版放在洗版機中洗滌，消除污漬，使印版面干凈、平整。2. 顯影：將洗凈的磁鐵版放入顯影機中顯影，選擇合適的膜粒大小，以便根據圖案進行印刷。3. 曝光：使用燈光/照相機曝光，使磁鐵版上的油墨凝固，形成良好...

顯影噴淋（developer dispense）：在硅片表面涂覆顯影液。為了將顯影液均勻地涂覆到硅片表面上，顯影噴嘴分為以下幾種：E2噴嘴，LD噴嘴，GP噴嘴，MGP噴嘴等。顯影液去除并且清洗（rinse）：曝光：使用紫外線曝光機將掩膜上的圖案投射到光刻膠上。顯影：使用顯影液將未曝光的光刻膠清除掉，將芯片圖案暴露出來。刻蝕：使用化學反應或物理方法將芯片表面的材料刻蝕掉，形成所需的電子器件結構。清洗：將芯片在化學清洗液中清洗干凈，并使用干燥器進行干燥。

蝕刻加工中曝光顯影是蝕刻工序前的一步重要的工序，曝光是將需要蝕刻的圖案通過光繪轉移到兩張一樣的菲林膠片上，曝光顯影是一種攝影技術，其過程包括兩個步驟：曝光和顯影。在曝光過程中，光線照射到感光材料上，使材料中的紋理或顏色發(fā)生變化。在顯影過程中，通過將已曝光的感光材料轉移到顯影劑中，然后在定影劑中處理，產生可見的圖像。

將顯影液涂覆在曝光后的晶圓表面上，正膠的曝光區(qū)域和負膠的非曝光區(qū)域溶于顯影液中，進一步將反應聚合物和顯影液殘留沖洗后，就可以顯現(xiàn)出光刻膠中的圖形，曝光一般在曝光機內進行，曝光不足，導致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會造成難顯影，留有殘膠。同時曝光影響圖案的線寬，過量曝光會使圖形線條變細，蝕刻產品線條變粗。為了讓顯影液與光刻膠進行充分反應