5分鐘前 路橋曝光顯影工藝廠來電咨詢「利成感光」[利成感光38dbdb8]內(nèi)容：

曝光時菲林膠片黑色部分的鋼片不被感光，對于空白的蝕刻鋼片感光，

曝光一般在曝光機內(nèi)進行，技術(shù)關(guān)鍵點：低溫平行光源,波長根據(jù)油墨特性進行設(shè)備，目前光源是一大難點問題。利用曝光顯影工藝正好可以解決遮蔽油墨不能通過傳統(tǒng)印刷解決的問題，具有精度高，量產(chǎn)性好，良率高等特點，采用曝光顯影技術(shù)，遮蔽油墨可控良率可達90%以上。

曝光顯影是一種用于光刻制程的技術(shù)，主要用于制造半導(dǎo)體芯片、液晶顯示器等微電子器件。它包含兩個階段：曝光：在將光線通過掩膜中的芯片圖案照射到光刻膠表面的過程中，使得光刻膠在芯片表面保留下芯片圖案的影像。

曝光顯影技術(shù)可以制造出高精度微納米級別下的芯片制造工藝，大大提高了芯片質(zhì)量及其可靠性。曝光顯影是半導(dǎo)體工業(yè)中不可缺少的制造工藝，通過其可以制造出高度復(fù)雜的芯片結(jié)構(gòu)，實現(xiàn)各種微電子組件的功能，從而推動了現(xiàn)代科技產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。曝光一般在曝光機內(nèi)進行，目前的曝光機依據(jù)光源冷卻方式可分為風冷和水冷，曝光質(zhì)量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時間、菲林膠片質(zhì)量等因素。

曝光不足，導(dǎo)致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會造成難顯影，留有殘膠。同時曝光影響圖案的線寬，過量曝光會使圖形線條變細，蝕刻產(chǎn)品線條變粗。顯影噴淋（developer dispense）：在硅片表面涂覆顯影液。為了將顯影液均勻地涂覆到硅片表面上，顯影噴嘴分為以下幾種：E2噴嘴，LD噴嘴，GP噴嘴，MGP噴嘴等。

將顯影液涂覆在曝光后的晶圓表面上，正膠的曝光區(qū)域和負膠的非曝光區(qū)域溶于顯影液中，進一步將反應(yīng)聚合物和顯影液殘留沖洗后，就可以顯現(xiàn)出光刻膠中的圖形，曝光一般在曝光機內(nèi)進行，目前的曝光機依據(jù)光源冷卻方式可分為風冷和水冷，曝光質(zhì)量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時間、菲林膠片質(zhì)量等因素。綜上可推出3D玻璃曝光顯影技術(shù)是PET貼膜工藝的一種補充，目前應(yīng)用范圍局限于機型，后續(xù)技術(shù)的突破另當別論。