5分鐘前 路橋曝光顯影工藝廠來電咨詢「利成感光」[利成感光38dbdb8]內容：

曝光時菲林膠片黑色部分的鋼片不被感光，對于空白的蝕刻鋼片感光，

曝光一般在曝光機內進行，技術關鍵點：低溫平行光源,波長根據油墨特性進行設備，目前光源是一大難點問題。利用曝光顯影工藝正好可以解決遮蔽油墨不能通過傳統印刷解決的問題，具有精度高，量產性好，良率高等特點，采用曝光顯影技術，遮蔽油墨可控良率可達90%以上。

曝光顯影是一種用于光刻制程的技術，主要用于制造半導體芯片、液晶顯示器等微電子器件。它包含兩個階段：曝光：在將光線通過掩膜中的芯片圖案照射到光刻膠表面的過程中，使得光刻膠在芯片表面保留下芯片圖案的影像。

曝光顯影技術可以制造出高精度微納米級別下的芯片制造工藝，大大提高了芯片質量及其可靠性。曝光顯影是半導體工業中不可缺少的制造工藝，通過其可以制造出高度復雜的芯片結構，實現各種微電子組件的功能，從而推動了現代科技產業的發展。曝光一般在曝光機內進行，目前的曝光機依據光源冷卻方式可分為風冷和水冷，曝光質量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時間、菲林膠片質量等因素。

曝光不足，導致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會造成難顯影，留有殘膠。同時曝光影響圖案的線寬，過量曝光會使圖形線條變細，蝕刻產品線條變粗。顯影噴淋（developer dispense）：在硅片表面涂覆顯影液。為了將顯影液均勻地涂覆到硅片表面上，顯影噴嘴分為以下幾種：E2噴嘴，LD噴嘴，GP噴嘴，MGP噴嘴等。

將顯影液涂覆在曝光后的晶圓表面上，正膠的曝光區域和負膠的非曝光區域溶于顯影液中，進一步將反應聚合物和顯影液殘留沖洗后，就可以顯現出光刻膠中的圖形，曝光一般在曝光機內進行，目前的曝光機依據光源冷卻方式可分為風冷和水冷，曝光質量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時間、菲林膠片質量等因素。綜上可推出3D玻璃曝光顯影技術是PET貼膜工藝的一種補充，目前應用范圍局限于機型，后續技術的突破另當別論。