高純水設(shè)備，作為制取超純水的設(shè)備，作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備，可以制取出高達(dá)10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業(yè)，半導(dǎo)體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。純水設(shè)備的特點(diǎn)：能耗小，水利用率高，運(yùn)行費(fèi)用低于其它脫鹽設(shè)備；分離過(guò)程沒(méi)有相變，具有可靠穩(wěn)定性；設(shè)備體積小，操作簡(jiǎn)單、容易維護(hù)，適應(yīng)性強(qiáng)，使用壽命長(zhǎng)。edi高純水設(shè)備是將反滲透技術(shù)和離子交換技術(shù)結(jié)合后形成的制備超純水的工具，它采用微電腦智能程序控制系統(tǒng)，可以自動(dòng)檢測(cè)并顯示水質(zhì);在獲得高質(zhì)量產(chǎn)水的同時(shí)，保證出水量。

純水設(shè)備的特點(diǎn)：能耗小，水利用率高，運(yùn)行費(fèi)用低于其它脫鹽設(shè)備；分離過(guò)程沒(méi)有相變，具有可靠穩(wěn)定性；設(shè)備體積小，操作簡(jiǎn)單、容易維護(hù)，適應(yīng)性強(qiáng)，使用壽命長(zhǎng)。純凈水設(shè)備可以有效地清除水中的細(xì)菌，重金屬離子等有害物質(zhì)，還可清除無(wú)法清除的氟等致癌的物質(zhì)。反滲透裝置在長(zhǎng)期運(yùn)行中，膜表面會(huì)逐漸積累各種污染物，如膠體、微生物、無(wú)機(jī)物垢、金屬氧化物等。這些物質(zhì)沉積在膜表面上，會(huì)引起反滲透裝置性能的下降。為了恢復(fù)膜的性能，需對(duì)膜進(jìn)行化學(xué)清洗和消毒。

反滲透超純水設(shè)備是采用RO技術(shù)設(shè)計(jì)，關(guān)鍵部件、設(shè)備質(zhì)量可靠，可擴(kuò)展性強(qiáng)，結(jié)構(gòu)合理占地小，水利用率高，能耗低，全自動(dòng)化運(yùn)行，操作維護(hù)簡(jiǎn)單。水回收率一般可達(dá)75%以上，脫鹽率>98%。純水(超純水)處理設(shè)備，是指水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除，同時(shí)不離解的氣體、膠體以及有機(jī)物（包括細(xì)菌）也去除至很低程度的水。EDI技術(shù)是一種具有革命性意義的水處理技術(shù)，將電滲析與離子交換有機(jī)地結(jié)合在一起的連續(xù)去鹽工藝，屬高科技綠色環(huán)保技術(shù)。