公開(kāi)了一種曝光顯影設(shè)備及曝光顯影方法,以解決光阻殘留問(wèn)題,且提高加工效率、降低生產(chǎn)成本。
本公開(kāi)的額外方面和優(yōu)點(diǎn)將部分地在下面的描述中闡述,并且部分地將從描述中變得顯然,或者可以通過(guò)本公開(kāi)的實(shí)踐而習(xí)得。
東莞市清溪利成曝光顯影