鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀儀器特點(diǎn)

1. 分析流程全自動化控制，實(shí)現(xiàn)軟件點(diǎn)火、氣路智能控制功能；

2. 輸出功率自動匹配調(diào)諧，功率參數(shù)程序設(shè)定；

3. 優(yōu)良的光學(xué)系統(tǒng)，先進(jìn)的控制系統(tǒng)，保證峰位定位準(zhǔn)確，信背比優(yōu)良；

4. 較小的基體效應(yīng)；

5. 測量范圍寬，超微量到常量的分析，動態(tài)線性范圍5—6個數(shù)量級；

6. 檢出限低，大多數(shù)元素的檢出限可達(dá)ppb級；

7. 良好的測量精度，穩(wěn)定性相對標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤1.5%（5ppm），優(yōu)于國家A等級標(biāo)準(zhǔn)（JJG768-2005）；

8.

Rf輸出功率的范圍750-1500W，輸出功率穩(wěn)定性小于0.1%；

9. 光電倍增管的負(fù)高壓可在0-1000V范圍內(nèi)獨(dú)立可調(diào)，可根據(jù)不同元素的不同譜線單獨(dú)設(shè)置條件，和全譜儀器比較有更好的檢出限；

10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全；

11. 精度較高的光室恒溫系統(tǒng)，保證儀器優(yōu)良的長短期精度；

12. 多通道蠕動泵進(jìn)樣，保證儀器進(jìn)樣均勻，工作穩(wěn)定；

13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃，在吸收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m（JJG768-2005規(guī)定小于10V/m）。

14. 具有較高的譜線分辨率，能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線，能分出鐵的四重峰。

15. 人性化的軟件設(shè)計，操作方便，終身免費(fèi)升級。功能強(qiáng)大、友好的人機(jī)界面分析軟件,可在測定過程中，進(jìn)行數(shù)據(jù)處理，方法編制和結(jié)果分析，是真正的多任務(wù)工作軟件；該軟件數(shù)據(jù)處理功能強(qiáng)大，提供了多種方法，如內(nèi)標(biāo)校正、IECS和QC監(jiān)測功能等，可獲得的背景扣除點(diǎn)以消除干擾；對輸出數(shù)據(jù)可直接打印或自動生成Excel格式的結(jié)果報告。

鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分光系統(tǒng)

儀器采用徑向觀測與軸向觀測設(shè)計，適應(yīng)亞ppm到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，使用CaF2棱鏡，提高光路傳輸效率。

優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計，采用非球面光學(xué)元件，改善成像質(zhì)量，提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術(shù)，縮短光室充氣時間，提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性，開機(jī)即可測量。 包圍式立體控溫系統(tǒng)，保障光學(xué)系統(tǒng)長期穩(wěn)定無漂移。

光源

固態(tài)射頻發(fā)生器，穩(wěn)定，體積小巧，，匹配速度快

冷錐消除尾焰技術(shù)，地降低自吸效應(yīng)和電離干擾，從而獲得更寬的動態(tài)線性范圍和更 低的背景，保證準(zhǔn)確的測量結(jié)果。 具有綠色節(jié)能待機(jī)模式，待機(jī)時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運(yùn)行，節(jié)約使用成本。

簡潔的炬管安裝定位設(shè)計，快速定位，的位置重現(xiàn)。 實(shí)時監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù)，CAN工業(yè)現(xiàn)場總線，保障通訊可靠。

進(jìn)樣系統(tǒng)

簡潔的炬管安裝設(shè)計，自動定位炬管位置，的位置重現(xiàn)。

ICP光譜儀使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測試性能長期穩(wěn)定。 多通道12滾輪蠕動泵，提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性。

檢測器

大面積背照式CCD檢測器,全譜段響應(yīng)，高紫外量化效率，抗飽和溢出，具有極寬的動態(tài)范

圍和極快的信號處理速度。 一次曝光，完成全譜光譜信號的采集讀取，從而獲得更為快速、準(zhǔn)確的分析結(jié)果。

ICP光譜儀具有同類產(chǎn)品中靶面尺寸，像素，單像素面積24μm X 24μm，三級半導(dǎo)體制冷,制冷溫 度 低，具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性。

軟件系統(tǒng)

人性化的界面設(shè)計，流暢易懂，簡便易用，針對分析應(yīng)用優(yōu)化的軟件系統(tǒng)，無須復(fù)雜的方法開發(fā)， 即可快速開展分析操作。

豐富的譜線庫，智能提示潛在干擾元素，幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測方式設(shè)置，直觀的測試結(jié)果顯示。

安全防護(hù)

電磁屏蔽，減少電磁輻射 連鎖門保護(hù)，避免用戶誤操作可能帶來的風(fēng)險 防紫外觀測窗

鋼研納克 Plasma2000 全譜ICP光譜儀

Plasma2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克在首批“國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)”支持下研發(fā)的二維全譜高分辨ICP光譜儀，是國產(chǎn)全譜ICP光譜儀革命性產(chǎn)品，曾斬獲中國儀器儀表行業(yè)協(xié)會“自主金獎”等一系列榮譽(yù)，在業(yè)界獲得廣泛的好評。美觀精致的高顏值工業(yè)設(shè)計，優(yōu)異穩(wěn)定的測試性能源于納克近四十年ICP行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。Plasma2000擁有

1、中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，徑向觀測，具有穩(wěn)健的檢測能力。

2、 有效穩(wěn)定的自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小巧，匹配速度快，確保儀器的精度較高運(yùn)行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

3、 高速面陣CCD采集技術(shù)，單次曝光獲取全部譜線信息，真正實(shí)現(xiàn)“全譜直讀”。

4、 功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)，簡化分析方法的開發(fā)過程，為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗(yàn)。

可廣泛應(yīng)用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

鋼研納克 Plasma2000型全譜等離子體光譜儀

2015年10月14日，中國分析測試協(xié)會組織在北京對鋼研納克檢測技術(shù)有限公司的“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”3項(xiàng)成果進(jìn)行了鑒定。本次鑒定組成員包括：清華大學(xué)張新榮、中國分析測試協(xié)會張渝英、中國分析測試協(xié)會汪正范研究員、科學(xué)儀器研究中心于科岐研究員、北分瑞利儀器有限公司章詒學(xué)、北京科技大學(xué)劉杰民。鋼研納克檢測技術(shù)有限公司賈云海總經(jīng)理、技術(shù)中心沈?qū)W靜、項(xiàng)目負(fù)責(zé)人及項(xiàng)目骨干出席本次鑒定會。

本次鑒定會由鑒定組組長張新榮主持，項(xiàng)目組向組成員詳細(xì)匯報了成果情況，組審議了成果研制報告、成果查新報告、檢驗(yàn)報告和用戶報告等項(xiàng)目鑒定資料，并觀看了儀器現(xiàn)場操作演示，進(jìn)行了質(zhì)詢。在此基礎(chǔ)上，們進(jìn)行了認(rèn)真討論，一致同意并通過了“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”的儀器鑒定。

鑒定結(jié)論如下：

“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀” 技術(shù)指標(biāo)達(dá)到：波長范圍：165~900nm；200nm處分辨率0.007nm；自主研發(fā)固態(tài)射頻發(fā)生器，功率范圍800W~1600W，連續(xù)1瓦可調(diào)，功率穩(wěn)定性優(yōu)于0.1%，具有自動匹配調(diào)諧功能；軟件一鍵點(diǎn)火，電路具有全自動保護(hù)功能；具有儀器參數(shù)自動優(yōu)化功能；具有激光剝蝕進(jìn)樣系統(tǒng)接口，可配備有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng)、高鹽和耐進(jìn)樣系統(tǒng)，可使用有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng)直接測試油品。具有（1）成功攻克了固態(tài)射頻發(fā)生器、高分辨二維全譜光譜系統(tǒng)等關(guān)鍵技術(shù)；（2）自主研發(fā)的高分辨率二維分光系統(tǒng)，無需切換光路，一次曝光即可獲取全部譜線數(shù)據(jù)；（3）建立了多種樣品分析的方法數(shù)據(jù)庫等點(diǎn)。該儀器技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國內(nèi)同類產(chǎn)品水平，已實(shí)現(xiàn)銷售，具有良好市場前景。