對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經歷成膜過程，終形成薄膜。

濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。

濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射)，晶向(外沿)生長的控制也比較一般。以pld為例，因素主要有：靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時間。手機真空防水鍍膜機蒸發鍍膜設備的工作原理,蒸發鍍膜是在真空條件下通過電阻或電子束加熱鍍膜材料，使其原子或分子從表面蒸出，沉積到基片表面從而形成薄膜的技術，該技術具有使用范圍廣、薄膜厚度高度可控、技術成熟、成本低廉等特點。

真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是使置待鍍金屬和被鍍塑料制品位于真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜

在真空條件下可減少蒸發材料的原子、鍍膜公司分子在飛向塑料制品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等）

電子書的顯示屏與邊框公差較大，縫隙看起來不美觀，利用填充劑材料可以消除縫隙使外觀更精致；電子書生產商對于工藝要求很高，成品要達到6級以上的防水，防潮，耐腐蝕等性能

相比同類型氣相沉積技術有著更加穩定的防水氣潮氣性能，有優異的耐熱耐寒性，具備RoHS、REACH認證，安全無毒不燃燒，透明無異味，有著優異的耐鹽霧腐蝕能力，納米級厚度，肉眼無法看到，如同隱形涂層

納米鍍膜主要的成分是從石英砂中提純的納米級別的二氧化硅,其單晶分子大小達到8-10nm,作用原理是,手機的鏡面雖然在肉眼的觀察下是平整的,但是實際表面是有很多分子的縫隙,我們就利用這種超微觀的納米二氧化硅來填充這些分子的縫隙從而達到提高屏幕密度硬度。可以有效提高屏幕的光滑度，提升手機屏幕畫質，色彩更逼真，觸控格更靈敏。無論是那種納米手機鍍膜，期主要成份都是二氧化硅。也就是液體玻璃。此外，雖然QCM在低溫下非常穩定，但溫度高，它將成為對溫度很敏感。