真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜辦法而發展起來的一種新型鍍膜技能，一般稱為干式鍍膜技能。真空鍍膜技能一般分為兩大類，即物理氣相堆積（PVD）技能和化學氣相堆積（CVD）技能。

真空鍍膜加工的基本技能要求

1、設備中的真空管道、靜態密封零部件（法蘭、密封圈等）的結構形式，應契合GB/T6070的規則。

2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應設備真空丈量規管，分別丈量各部位的真空度。當發現電場對丈量造成攪擾時，應在丈量口處設備電場屏蔽設備。

真空鍍膜加工都使用那些工藝

噴砂和陽極氧化

一般的陽極氧化噴砂是針對的鋁或者鋁合金的較多。砂分為粗砂和細砂，細砂的成本相對要高一點點，一般金屬表面瑕疵較多的會選擇噴粗砂去掩蓋一部分，但是噴砂不能完全掩蓋一些嚴重的瑕疵。細砂一般針對金屬表面比較平整很小瑕疵或者沒有瑕疵的。噴砂以后做氧化能給產品帶來很好的質感。像我們常用的手機殼表面很多都是噴砂之后氧化的

鍍膜方法可以分為氣相生成法，氧化法，離子注入法，擴散法，電鍍法，涂布法，液相生長法等。氣相生成法又可分為物理氣相沉積法，化學氣相沉積法和放電聚合法等。真空蒸發，濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物理氣相沉積法，是基本的薄膜制備技術。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以，真空技術是薄膜制作技術的基礎，獲得并保持所需的真空環境，是鍍膜的必要條件。

真空鍍膜技術是真空應用技術的一個重要分支，它已廣泛地應用于光學、電子學、能源開發，理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學以及科學研究等領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣相沉積法。首先在光學方面，一塊光學玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質的薄膜后，即可成為高反射或無反射(即增透膜)或者作任何預期比例的反射或透射材料，也可以作成對某種波長的吸收，而對另一種波長的透射的濾色名片。