曝光顯影的概念：

曝光工藝是怎樣？

將需要的圖形根據(jù)油墨的感光特性制成掩膜板（光罩/Mask)，掩膜板與噴墨后的玻璃緊密接觸，通過曝光技術(shù)，使圖形轉(zhuǎn)印到玻璃之上，完成原有印刷之功能。技術(shù)關(guān)鍵點(diǎn)：低溫平行光源,波長(zhǎng)根據(jù)油墨特性進(jìn)行設(shè)備，目前光源是一大難點(diǎn)問題。

顯影工藝是怎樣？

前工站加工的玻璃進(jìn)入顯影設(shè)備，對(duì)需要去除的油墨進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，進(jìn)行剝離，然后進(jìn)行表面清洗，形成的油墨3D蓋板。顯影操作需控制好顯影液的溫度、傳送速度、噴淋壓力等參數(shù)。

在曝光顯影工藝中，只有對(duì)以上各種公差配合完全掌握，才能簡(jiǎn)單可靠的做出合格產(chǎn)品。

曝光顯影技術(shù)優(yōu)勢(shì)

1、解決3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷難題；

2、圖形轉(zhuǎn)印技術(shù)單層、多層套印精度高；

3、霧化噴涂確保厚度均一性，提高致密性，降低油墨厚度；

4、采用圖形轉(zhuǎn)印技術(shù)，良率較高；

5、4-6寸蓋板單制程產(chǎn)能優(yōu)勢(shì)明顯；

6、較薄的油墨利于貼合，提高制程整體良率

蝕刻、曝光和顯影的意思分別是：

1、蝕刻：

一種將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

2、曝光：

指在攝影過程中進(jìn)入鏡頭照射在感光元件上的光量，由光圈、快門、感光度的組合來控制。通常是指使感光紙或攝影膠片感光，攝影感光材料的感光。

3、顯影：

在印刷、影印、復(fù)印、曬圖等行業(yè)中，讓影像顯現(xiàn)的一個(gè)過程。通常指在復(fù)印機(jī)、打印機(jī)中顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉(zhuǎn)變成可見的色粉圖像的過程。