常規(guī)超聲C掃描成像檢測技術(shù)

當今，對腐蝕超聲檢測的顯示，正逐漸從“單點”的A型顯示和“二維線性”的B型顯示向“三維體性”的C型顯示方式發(fā)展，缺陷顯示更加真實完整，數(shù)據(jù)更加豐富。

超聲C型掃描顯示，簡稱C掃，即特定深度掃描模式，從顯示方式看是二維平面顯示，用平面上不同的顏色來反映波幅高度或不同的厚度信息。C掃的圖像實際是由探頭掃描路徑的每一組B掃圖像組合而成，因此C掃成像平面與B掃成像平面是互相垂直的。在C型掃描成像中，探頭不但要沿x方向掃描，而且還要沿y方向掃描，即面掃描(二維掃描)，而不是線掃描(一維掃描)。為獲得某一與聲束軸線垂直的斷面在z=z0的圖像，掃描聲束應(yīng)聚焦于該平面；改變掃描聲束聚焦的平面，即可獲得物體不同深度的C掃截面圖像。

超聲C掃描檢測設(shè)備

超聲C掃描檢測方式通常采用常規(guī)超聲探頭+雙軸掃查器的方式，但是隨著相控陣超聲技術(shù)及計算機技術(shù)的快速崛起，誕生了以超聲相控陣技術(shù)的C掃描檢測技術(shù)，即超聲相控陣多陣元探頭+雙軸掃查器的方式。相控陣超聲C掃描系統(tǒng)具有更高的精度和缺陷檢出率，更快的檢測速度和更高的圖像分辨率等優(yōu)點，因此其具有更高的發(fā)展空間，必定是今后超聲C掃描檢測的主流。

c掃描應(yīng)用范圍

近年來，超聲波掃描顯微鏡（C-SAN）已被成功地應(yīng)用在電子工業(yè)，尤其是封裝技術(shù)研究及實驗室之中。由于超音波具有不用拆除組件外部封裝之非破壞性檢測能力，故C-SAN可以有效的檢出IC構(gòu)裝中因水氣或熱能所造成的破壞如﹕脫層、氣孔及裂縫…等。 超聲波在行經(jīng)介質(zhì)時，若遇到不同密度或彈性系數(shù)之物質(zhì)時，即會產(chǎn)生反射回波。而此種反射回波強度會因材料密度不同而有所差異.C-SAN即利用此特性來檢出材料內(nèi)部的缺陷并依所接收之訊號變化將之成像。因此，只要被檢測的IC上表面或內(nèi)部芯片構(gòu)裝材料的接口有脫層、氣孔、裂縫…等缺陷時，即可由C-SAN影像得知缺陷之相對位置。　C-SAN服務(wù)　超聲波掃描顯微鏡(C-SAN)主要使用于封裝內(nèi)部結(jié)構(gòu)的分析，因為它能提供IC封裝因水氣或熱能所造成破壞分析，例如裂縫、空洞和脫層。　C-SAN內(nèi)部造影原理為電能經(jīng)由聚焦轉(zhuǎn)換鏡產(chǎn)生超聲波觸擊在待測物品上，將聲波在不同接口上反射或穿透訊號接收后影像處理，再以影像及訊號加以分析。　C-SAN可以在不需破壞封裝的情況下探測到脫層、空洞和裂縫，且擁有類似X-Ray的穿透功能，并可以找出問題發(fā)生的位置和提供接口數(shù)據(jù)。

C掃描檢測靈敏度要求

一套的超聲波探傷設(shè)備,在現(xiàn)場使用時，一定要具有良好的抗干擾性能v否則即使實驗室具有良好指標的設(shè)備,在生產(chǎn)現(xiàn)場也無法使用。對于超聲波C掃描探傷儀而言,機械精度是影響其探傷靈敏度高低的重要因素之一。在一般的手工水浸探傷中,經(jīng)常由于人為視覺的誤差,造成超聲探頭發(fā)射的超聲波不能與受檢材料很好地垂直,從而造成超聲波能量傳輸損失,終可能對受檢材料內(nèi)部缺陷產(chǎn)生漏判、誤判。為了盡量減少人為因素對探傷結(jié)果的影響,我們引進超聲波C掃描探傷自動化設(shè)備。設(shè)備在生產(chǎn)應(yīng)用之前進行嚴格測試機械精度,從而保證探傷結(jié)果的準確性。