真空電鍍PVD膜層對(duì)不銹鋼基材外表防腐功能的提拔是有必然協(xié)助的，但不能完全阻止基材受腐蝕。因而，基材自身的防腐功能是持久堅(jiān)持PVD膜層的要害。在鋅合金，鐵合金，銅合金，鋁合金以及其他不耐侵蝕、輕易氧化的金屬上不能直接鍍PVD膜層，因?yàn)樯鲜鼋饘倩妮p易侵蝕，或外表不致密細(xì)小氣孔較多，外表雜質(zhì)難以清洗潔凈，直接用真空電鍍的辦法在其外表鍍制五顏六色的PVD膜層，假如不經(jīng)由封油等非凡處置，膜層容易腐蝕。

上述金屬要做PVD之前，普通都建議先做化學(xué)電鍍鉻和鎳處置，使其外表更防腐，才能到達(dá)理想的結(jié)果。陶瓷和玻璃經(jīng)由前處置，現(xiàn)階段能用PVD工藝處置外表。不銹鋼材料因?yàn)樽陨矸栏δ軆?yōu)異，在不銹鋼外表上電鍍五顏六色的PVD膜層是比較好的選擇。

一切不銹鋼產(chǎn)物在鍍前都必需清洗潔凈：

不銹鋼板材由于表面厚度均勻，比較容易清洗，只要去掉保護(hù)膜和表面膠水和雜質(zhì)即可；此外一些板材由于放置過長(zhǎng)，保護(hù)膜變質(zhì)導(dǎo)致后續(xù)面膠難以清除，而影響表面清潔。

不銹鋼構(gòu)件的清洗和清潔比較復(fù)雜，除了明顯的表面要清洗干凈外，在一些焊接，折邊，彎角等一些不明顯縫隙處，也需要把拋光蠟，膠水，銹斑，灰塵，焊渣等雜質(zhì)用清洗劑去除，不然很容易引起掉色。對(duì)要鍍的不銹鋼構(gòu)件來說，清洗難題來自于，一些藏在不銹鋼管及看不到地方里的拋光蠟，鹽，松香，沙子，木頭，膠水，塑料等難以清除的物質(zhì)。這些物質(zhì)會(huì)嚴(yán)重影響真空鍍膜質(zhì)量，導(dǎo)致顏色異常或掉色，因此不銹鋼制作廠家在制作過程中應(yīng)盡量避免上述物質(zhì)隱蔽藏匿在構(gòu)件中而無法清除，以免影響后續(xù)真空電鍍不銹鋼鍍膜質(zhì)量。

真空系統(tǒng)的基本知識(shí)

真空的定義：壓力低于一個(gè)大氣壓的任何氣態(tài)空間，采用真空度來表示真空的高低。

真空單位換算：1大氣壓≈1.0×105帕=760mmHg=760托

1托=133.3pa=1mmHg

1bar=100kpa

1mbar=100pa

1bar=1000mbar

TCO玻璃=Transparent Conductive Oxide 鍍有透明導(dǎo)電氧化物的玻璃

TCO材料：

SnO2:F(FTO fluorine doped tin oxide氟摻雜yang化錫)

ZnO:Al(AZO aluminum doped zinc oxide鋁摻雜氧化鋅)

In2O3:Sn(ITO indium tin oxide 氧化銦錫)

TCO薄膜的制備工藝

1. 薄膜的性質(zhì)是由制備工藝決定的，改進(jìn)制備工藝的努力方向是使制成的薄膜電阻率低、透射率高且表面形貌好，薄膜生長(zhǎng)溫度低，與基板附著性好，能大面積均勻制膜且制膜成本低。

2.主要生產(chǎn)工藝：鍍膜過程中有氣壓、基片溫度、靶材功率、鍍膜速度；刻蝕過程中有HCl濃度、刻蝕速度、刻蝕溫度。

真空蒸鍍又稱熱蒸發(fā)蒸鍍法

工藝關(guān)鍵詞:高溫溶解蒸發(fā)、沉積后覆膜

依薄膜材料之加熱方式之不同，真空蒸鍍又可分為間接加熱型與直接加熱型。

1. 間接加熱型:只針對(duì)蒸發(fā)源加熱，間接使其上之薄膜材料因熱而蒸發(fā);

2. 直接加熱型:利用高能粒子(電子束，電漿或鐳射)或高頻，直接使置于蒸發(fā)源上之薄膜材料升溫而蒸發(fā);

為避免蒸發(fā)源(容器)隨著薄膜材料一同被蒸發(fā)，蒸發(fā)源材質(zhì)的熔點(diǎn)一定要高于薄膜材料的沸點(diǎn)。

真空電鍍工藝主要是通過加熱器把膜材蒸發(fā)、蒸發(fā)的膜材原子或分子遷移吸附到基體表面的成膜工藝，因此根據(jù)膜材的種類不同大體可分為金屬膜的真空電鍍、合金膜的真空電鍍及化合物的真空電鍍這三大類。

從這一原理圖中不難看出，真空電鍍工藝過程是由膜材在蒸發(fā)源表面上的蒸發(fā)、蒸發(fā)后的粒子（主要是原子）在氣相中的遷移、到達(dá)基片表面上通過吸附作用在基片表面上凝結(jié)生成薄膜等三個(gè)過程所組成。這種工藝過程創(chuàng)造一個(gè)良好成膜條件是十分必要的。