6分鐘前 東陽金屬真空鍍膜服務至上「金百辰」[金百辰050f8dc]內(nèi)容:PVD即物理氣相沉積,是當前國際上廣泛應用的先進的表面處理技術。其工作原理就是在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化,在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時把蒸發(fā)物或其反應物沉積在基材上。它具有沉積速度快和表面清潔的特點,特別具有膜層附著力強、繞性好、可鍍材料廣泛等優(yōu)點。 采用先進的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝設備,及在此基礎之上與國際的工藝創(chuàng)新。憑借在裝飾鍍行業(yè)十多年的寶貴經(jīng)驗,為客戶提供適合的涂層加工方案。


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金屬真空鍍膜與您分享PVD 裝飾涂層顏色系列
PVD可以在不銹鋼、銅、鈦 鋅鋁合金等金屬上鍍制CrN. TiN. TiAlCN. TiCN. TiAlN。金色、黃銅色、玫瑰金色、銀白色、黑色、煙灰色、紫銅色、棕色、紫色、藍色、酒紅色、古銅色等顏色,并能根據(jù)您的要求提供所需的顏色及質(zhì)量。還可在塑料產(chǎn)品上鍍制EMI膜 半透膜 透明膜 不導電膜。


離子鍍基本原理是在真空條件下,采用某種等離子體電離技術,使鍍料原子部分電離成離子,同時產(chǎn)生許多高能量的中性原子,在被鍍基體上加負偏壓。這樣在深度負偏壓的作用下,離子沉積于基體表面形成薄膜。
物理氣相沉積技術基本原理可分三個工藝步驟:
(1)鍍料的氣化:即使鍍料蒸發(fā),升華或被濺射,也就是通過鍍料的氣化源。
(2)鍍料原子、分子或離子的遷移:由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過碰撞后,產(chǎn)生多種反應。
(3)鍍料原子、分子或離子在基體上沉積。




