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在真空的世界里，也有一對不離不棄的“超級情侶”。我們習慣稱這對超級伴侶為前級真空泵和高真空泵。前級泵必須滿足特定的抽氣速度和極限真空，并且可以持續的無故障長時間運行，高真空泵極限真空極高，只有分子泵才能有此能力。前級泵和分子泵相生相伴，在電子顯微鏡、質譜以及領域做出了的貢獻，推動了科學儀器行業的飛速發展。
為什么分子泵和前級泵是天作之合？分子泵需要配置前級泵, 而不是直接在大氣壓下工作. 我們都知道渦輪分子泵必須在分子流狀態下工作才能顯示出它的優越性。分子泵輸送氣體應滿足兩個必要條件：1渦輪分子泵必須在分子流狀態下工作；2分子泵的轉子葉片必須具有與氣體分子速度相近的線速度。具有這樣的高速度才能使氣體分子與動葉片相碰撞后改變隨機散射的特性而作定向運動。分子泵的轉速越高，對提高分子泵的抽速越有利；
在純粹渦輪分子泵的情況下, 由于其分子流,需要的前級真空大約為為 5～10^-2mbar。所以需要前級泵來預抽，如果不預抽的話,直接啟動分子泵, 由于形成的壓縮比太大容易把分子泵葉片損壞，這就是為什么分子泵需要前級泵的主要原因。
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典型渦輪分子泵抽氣系統渦輪分子泵抽氣系統一般不需要用常見的液氮冷阱來阻止軸承潤滑油或機械泵泵液的返流只要泵是以額定角速度旋轉，那么泵對除很輕的氣體氫以外的所有氣體都具有比較高的壓縮比，足以阻止這些氣體從前級管道端返流到高真空端液氮冷卻的表面不能捕集因壓縮比低而返流到真空室的少量的氫液氮冷阱可用來提高系統對水蒸氣的抽速，
其很好的安裝位置是在高真空閥的后面，也就是直接設置在渦輪分子泵的喉部上方還可以考慮在高真空閥后面裝一個三通管，把渦輪分子泵接在它的一個接口上，而把液氮冷卻的表面接在另一個接口上而三通的任何兩個接口之間的流導都要小于液氮冷阱的通導然而要使分子泵對水蒸氣和空氣都具有很大抽速，很佳的安排還是將液氮冷阱安裝在渦輪分子泵和高真空閥門之間。
渦輪分子泵抽氣系統既不需要用粗抽阱也不需要用前級管道冷阱粗抽與主抽系統之間較高的切換壓力能防止機械泵油通過粗抽管道遷移到真空室中去，而泵對碳氫化物餾分的高壓縮比也阻止它們從前級管道通過泵反擴散到真空室中去。
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在高真空抽氣過程的起始階段，泵的很大的未經烘烤的內表面會吸附水，然后再在較低的壓力下重新釋放出來。這種效應在無閥門的系統中更為明顯，因為它可能比未暴露在壓力高于150Pa的空氣環境的有閥門的系統吸附更多的水蒸氣。系統停機時，先關閉高真空閥，如果有液氮冷阱的話，還要將冷阱加熱。在冷阱達到平衡溫度后，關掉前級管道閥，再切斷渦輪分子泵電動機的電源，使分子泵的轉子減速。
一般來說，泵轉子完全停止需要十分鐘或更長的時間。在分子泵轉子減速期間，來自前級管道的碳氫化合物和渦輪分子泵的潤滑油蒸氣會迅速地向泵的進氣口上方區域擴散。為了防止機械泵油蒸氣和渦輪分子泵潤滑油蒸氣的返流，在切斷渦輪分子泵電動機的電源后，要用一股干燥的反向氣流對分子泵進行放氣。
例如，應該在泵轉子速度下降到很大轉速的50%左右時，在泵進氣口上方的某處或在轉子組件上部連續充入氣或氮氣，直到泵內壓力達到大氣壓。通過從閥門3（見圖1）充入氣體就可適當地完成這一操作。當渦輪分子泵以額定速度運轉時，不應經常充入壓力為大氣壓的氣流。這樣做對軸的壽命是不利的。當前級管道閥關閉后，即可關掉機械泵系統，并用放氣閥對機械泵內進行放氣。停機后應立即關掉冷卻水以防止內部冷凝。在正常工作時，可把水溫調節到略高于來消除泵體外部可能形成的冷凝物。
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通用的沉積技術有化學氣相淀積（CVD）、蒸發和濺射PVD。一般來說，其中還要夾雜低溫（≤500℃）退火工藝等熱處理工藝，用以增進金屬層和半導體之間的低電阻接觸、消除內應力等。設備運行過程中需要高潔凈的真空環境，一般采用以磁懸浮分子泵為主的無油真空系統。
刻蝕是用化學或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要材料的過程。刻蝕的基本目標是在涂膠的硅片上正確地掩膜圖形。現代化的干法刻蝕設備包括復雜的機械、電氣和真空系統，同時配有自動化的刻蝕終點檢測和控制裝置。刻蝕應用工況復雜，清潔性差，充入特種氣體種類繁多，因此需要特殊處理的干泵和磁懸浮分子泵。
離子注入設備：離子注入是指在真空環境下，當離子束射向固體材料時，受到固體材料的抵抗而速度慢慢減低下來，并很終停留在固體材料中的現象。離子注入是半導體表面附近區域進行摻雜的主要技術，其目的是改變半導體的載流子濃度和導電類型。離子注入機是集成電路制造工序中的關鍵設備，需要高清潔的真空環境，以保證離子摻雜濃度和劑量的準確性。
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