真空鍍膜加工的濾片透射率

由于全介質(zhì)多層反射膜只在有限的區(qū)域是有效的，因此濾光片透射率峰值的兩邊會(huì)出現(xiàn)旁通帶．在大多數(shù)應(yīng)用中需要將它們弄掉．短波旁通帶只要在濾光片上疊加一塊長(zhǎng)波通吸收玻璃濾光片便很容易去掉，但是很不容易得到短波通吸收濾光片、有些可供利用的吸收濾光片雖然能有效地長(zhǎng)波旁通帶,但因其短波方面的透射率太低,大大降低了整個(gè)濾光片的峰值透射率．解決這個(gè)問(wèn)題的滿意的辦法是干.脆不用吸收濾光片，而是把后面將要討論的誘導(dǎo)透射濾光片作為截止濾光片使用、由于誘導(dǎo)透射濾光片沒(méi)有長(zhǎng)波旁通

真空鍍膜加工都使用那些工藝

噴砂和陽(yáng)極氧化

一般的陽(yáng)極氧化噴砂是針對(duì)的鋁或者鋁合金的較多。砂分為粗砂和細(xì)砂，細(xì)砂的成本相對(duì)要高一點(diǎn)點(diǎn)，一般金屬表面瑕疵較多的會(huì)選擇噴粗砂去掩蓋一部分，但是噴砂不能完全掩蓋一些嚴(yán)重的瑕疵。細(xì)砂一般針對(duì)金屬表面比較平整很小瑕疵或者沒(méi)有瑕疵的。噴砂以后做氧化能給產(chǎn)品帶來(lái)很好的質(zhì)感。像我們常用的手機(jī)殼表面很多都是噴砂之后氧化的

真空鍍膜技術(shù)是在真空條件下采用物理或化學(xué)方法，使物體表面獲得所需的涂層，目前已被廣泛應(yīng)用于耐酸、耐蝕、耐熱、表面硬化、裝飾、潤(rùn)滑、光電通訊、電子集成、能源等領(lǐng)域。真空鍍膜技術(shù)也是PVD涂層的常用制備方法，如真空蒸發(fā)、濺射鍍膜和離子鍍等通常稱(chēng)為物理氣相沉積法（PVD），是基本的涂層制備技術(shù)。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以真空技術(shù)是涂層制作技術(shù)的基礎(chǔ)，獲得并保持所需的真空環(huán)境，是鍍膜的必要條件。