Parylene HT，該材料具有更低的介電常數(即透波性能好)、好的穩定性和防水、防霉、防鹽霧性能.短期耐溫可450攝氏度，長期耐溫
CVD（Chemical Vapor Deition）法：將對二和水蒸氣按一定比例混合，經 950~1000 °C高溫熱解，得到對二環二體(dimer)，隨后，經提純的二聚體在 120°C 的升華區內升華，在惰性氣體的推動下，二聚體進入溫度為 660°C 的裂解區，高溫下二聚體的分子鍵斷裂，生成活性的對二活性單體(monomer)，后在惰性氣體氣的推動下，活性單體在常溫或較低溫度下的真空沉積室里，在相應的基體材料的表面聚合沉積為parylene 薄膜。
派瑞林是一種對二的聚合物。用的真空氣相沉積工藝制備,由活性小分子在基材表面“生長”出完全敷形的聚合物薄膜涂層,它能涂敷到各種形狀的表面,包括尖銳棱邊、裂経和內表面。這種室溫沉積制備的0.1-100微米薄膜涂層,厚度均勻、致密無、透明無應カ、不含助劑、不損傷工件、有優異的電絕緣性和防護性,是當代較有效的防潮、防霉、防鹽霧涂層材料。精細的尺寸和優異的性能結合,使派瑞林在要求和高可靠性的當代高新技術產品中得到了越來越多的應用。
有機高分子奈米薄膜，屬高絕緣性、無、膜厚一致性的耐薄膜。其防塵、防潮、防水的耐透氣性效果，可使產品達到國際性防塵、防水的IP等級規范。例如，可使馬達組立、定子、轉子達到防塵、防水的IP5、5規范；對硅鋼片的耐壓及防線傷或NB電池回路基板，抗電解液腐蝕等都有其顯著的成效。
1、派瑞林真空鍍膜設備有效應用于磁性材料領域，派瑞林的制備工藝和優異性能相結合，使它能對小型超小型磁材進行無薄弱點全涂敷的磁材可浸鹽酸10天以上不腐蝕，目前國際上小型或者超小型磁材，幾乎都采用派瑞林鍍膜工藝作絕緣和防護涂層。
2、派瑞林真空鍍膜設備有效應用于印制電路組件和元器件領域，鍍膜材料通過派瑞林真空鍍膜設備使得活性的對二雙游離基小分子氣在印制電路組件表面沉積聚合完成。氣態的小分子能滲透到包括貼裝件下面任何一個細小縫隙的基材上沉積，形成分子量約50萬的高純聚合物。
3、派瑞林真空鍍膜設備有效應用于微電子集成電路領域，派瑞林的真空氣相沉積工藝不僅和微電子集成電路制作工藝相似，而且所制備的派瑞林涂層介電常數也低，還能用微電子加工工藝進行刻蝕制圖，進行再金屬化，因此派瑞林（Parylene）不僅可用作防護材料，而且也能作為結構層中的介電材料和掩膜材料使用，經派瑞林（Parylene）涂敷過的集成電路芯片，其25um細直徑連接線，連接強度可提高5-10倍。