6分鐘前 建鄴手機(jī)曝光顯影加工公司來(lái)電垂詢 利成感光[利成感光38dbdb8]內(nèi)容：3D玻璃顯影曝光技術(shù)在HW mateRs用到了此技術(shù)，該后蓋3D玻璃8曲面，弧面曲率大，普通的貼膜技術(shù)難以解決，應(yīng)用范圍主要是機(jī)型，曲率越大的玻璃加工制造難度加大，良率降低，成本報(bào)價(jià)相應(yīng)要高， 曝光顯影直接決定蝕刻圖案的準(zhǔn)確性，因此在菲林的制作上，需要非常準(zhǔn)確和清晰。操作人員要規(guī)范作業(yè)，避免圖案模糊或者移位影響產(chǎn)品品質(zhì)。

在了解曝光顯影在蝕刻加工中的作用前，我們要先了解一下什么是曝光顯影。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)曝光顯影是蝕刻加工中確定需要被腐蝕和不被腐蝕部分的工藝，準(zhǔn)確的曝光顯影才能保證產(chǎn)品的精度。

曝光時(shí)間，s。

從上式可以看出，曝光總能量e隨光強(qiáng)度j和曝光時(shí)間t而變化。當(dāng)曝光時(shí)間丁一定，光強(qiáng)度改變，曝光總能量也隨之改變。所以盡管?chē)?yán)格控制了曝光時(shí)間，但實(shí)際上干膜在每次曝光時(shí)所獲得的曝光總能量并不一定相同，因而聚合程度也就不同。為使每次曝光能量相同，必須使用光能量積分儀來(lái)計(jì)量曝光。

曝光顯影是一種攝影技術(shù)中常用的過(guò)程，通常用于將攝影底片或者電子傳感器中記錄的光影信息轉(zhuǎn)化為可見(jiàn)影像的過(guò)程。曝光是將光照射在底片或傳感器上的過(guò)程，而顯影則是將暴露的底片或傳感器做出可見(jiàn)影像的過(guò)程。這個(gè)過(guò)程在攝影，印刷和微電子制造等很多領(lǐng)域中都有應(yīng)用。曝光顯影是一種用于光刻制程的技術(shù)，主要用于制造半導(dǎo)體芯片、液晶顯示器等微電子器件。它包含兩個(gè)階段：曝光：在將光線通過(guò)掩膜中的芯片圖案照射到光刻膠表面的過(guò)程中，使得光刻膠在芯片表面保留下芯片圖案的影像。顯影：通過(guò)將芯片表面的光刻膠所形成的圖案暴露在顯影液中進(jìn)行刻蝕，去除光刻膠的非芯片圖案區(qū)域，使得芯片上僅保留出所需要的器件結(jié)構(gòu)。